Sul piano di lavorazione, il supporto su cui è posizionata la wafer, una volta uscito dal sistema di pulizia, non può trasportare umidità all’interno della stanza di litografia. I film residui e le tracce d’acqua non solo riducono la resa del processo, ma costringono anche a effettuare ulteriori operazioni di correzione, compromettendo così il bilancio termico necessario per la successiva fase di trattamento termico. Il dispositivo di essiccazione deve quindi garantire un livello di umidità costante, senza aggiungere particelle o sollecitare troppo termicamente il supporto su cui è posizionata la wafer.
Cosa è importante nel funzionamento del dispositivo
Abbiamo progettato questo dispositivo di essiccazione basandoci sull’uso di calore a onde infrarosse a breve lunghezza d’onda (NIR). Le onde infrarosse penetrano direttamente nell’acqua e nei film sottili, permettendo così di essiccare il supporto senza surriscaldarlo. Questo permette di ottenere un campo termico uniforme su tutta la superficie del supporto, con una precisione di ±0,1°C nella zona critica. La ripetibilità dei risultati è garantita grazie all’arrangiamento delle lampade e al controllo in ciclo chiuso: ogni ciclo produce lo stesso profilo termico, evitando variazioni nelle condizioni di essiccazione. Il sistema funziona in ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, è progettato per evitare la formazione di particelle durante il funzionamento, e il percorso di scarico dei gas è stato progettato per prevenire eventuali problemi legati alla ricaduta di particelle.
Perché è importante in produzione
In produzione, questo dispositivo elimina le incertezze legate al passaggio dalla fase di pulizia a quella di litografia. Il fotorest è sensibile alle variazioni termiche; quindi, anche piccole differenze di temperatura possono causare problemi. Il campo termico uniforme prodotto da questo dispositivo mantiene il supporto all’interno dell’intervallo termico desiderato. Ciò permette cicli di essiccazione più brevi, un consumo minore di gas ed energia, e meno rifiuti a causa delle tracce d’acqua. Il modulo è progettato per funzionare 24 ore su 24, con un carico termico prevedibile e una struttura solida delle lampade; in questo modo si riducono le interruzioni non programmate nel flusso di produzione.
Cosa bisogna tenere a mente
L’essiccazione tramite onde infrarosse richiede che il supporto sia visibile direttamente dalle lampade; quindi, la geometria del supporto e lo spazio tra di essi sono importanti. È necessario prestare attenzione agli spazi tra i supporti per mantenere l’uniformità termica; altrimenti si creeranno ombre. L’installazione richiede impianti elettrici e sistemi di aspirazione adatti a ambienti puliti. Inoltre, le lampade hanno una vita utile limitata; è quindi necessario programmare i sostituzioni come parte della manutenzione preventiva, per mantenere alta la qualità del prodotto e l’uniformità termica.