Di bilik pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu yang tidak terkawal merupakan masalah besar. Perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau keras, serta pola pemanasan yang tidak konsisten, akan menyebabkan masalah seperti kehilangan kawalan ketebalan lapisan semikonduktor, adanya sisa bahan pada permukaan wafer, dan penurunan kadar pengeluaran. Kami telah mencipta lampu inframerah khusus untuk proses pemanasan semikonduktor ini, agar ia dapat memenuhi keperluan nod pengeluaran yang canggih.
Apa yang penting dari segi teknikal ialah kawalan suhu yang tepat. Kami menggunakan lampu inframerah gelombang pendek yang beroperasi dalam selubung kuarsa yang responsif, supaya tenaga dapat disalurkan terus ke permukaan wafer. Lampu ini mampu mengekalkan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan, sehingga setiap wafer mendapat tahap suhu yang sama. Keluaran tenaga tetap stabil antara 300°C hingga 550°C, dengan ketepatan yang melebihi ±0.2°C dari satu kitaran ke kitaran seterusnya.
Standard bilik bersih kelas 1–100 sangat penting. Proses pemasangan dilakukan sedemikian rupa agar pengeluaran gas berkurangan, dan jumlah zarah yang dihasilkan diminimumkan sepenuhnya di titik penyinaran. Sistem pemantauan tertutup yang digunakan memastikan penghantaran tenaga berada dalam julat yang ditetapkan, walaupun voltan berubah-ubah.
Dalam proses litografi, proses pembakaran lembut digunakan untuk menetapkan profil pelarut pada lapisan fotoresist, manakala proses pembakaran keras pula digunakan untuk mengunci imej tersebut. Dengan lampu ini, kita dapat mencapai hasil yang lebih konsisten, mengurangkan masalah pada bahagian tepi wafer, dan hasil pembinaan wafer yang lebih bersih. Proses pemanasan untuk aplikasi lapisan tipis dan doping juga dapat dikawal dengan lebih baik.
Faedahnya sangat jelas: kurangnya keperluan untuk membuat semula wafer, anggaran ketebalan wafer yang lebih tepat, dan pengurangan sisa bahan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana proses pemanasan dilakukan secara tepat dan mengikut keperluan, dengan masa penyesuaian suhu yang singkat. Masa operasi juga tetap stabil—reka bentuk ini boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan.
Berikut adalah butiran praktikalnya. Lampu ini memerlukan sumber tenaga yang khusus dan terlindung, serta pengasingan haba yang efektif di kawasan proses. Penyesuaian geometri reflektor agar sesuai dengan saiz ruang proses adalah sangat penting untuk memastikan keseragaman suhu.
Anda boleh menjangkakan masa yang singkat diperlukan untuk menyetel parameter lampu agar sesuai dengan jenis wafer yang digunakan. Setelah penyesuaian selesai, proses pengeluaran akan menjadi lebih konsisten, mudah dikawal, dan siap untuk diperiksa.