Op de lijn
Die 300 mm wafer kan geen drift veroorloven tijdens de soft bake en hard bake. Een hotspot van 2°C over het veld zal de CD verschuiven, schilfers achterlaten en een hele batch tot schroot maken. Je hebt temperatuurregeling nodig die functioneert als een echt procesparameter, niet als een beste gok.
Wat er onder de motorkap belangrijk is
We hebben de precisie IR-sensor voor waferwerk ontwikkeld om een thermische uniformiteit van ±0,1°C over het bakoppervlak te behouden. De herhaalbaarheid van de instelwaarde blijft binnen ±0,05°C van run tot run.
Het werkt in cleanroom Class 1–100, met materialen en afwerkingen die geen deeltjes afgeven. Geen uitgassing, geen afschilfering en niets dat de fotoresist verontreinigt.
Het werkt samen met halogeen-, quartz- en NIR-bronnen, en de spectrale respons blijft stabiel, zodat de absorptie consistent is over de wafer. Je krijgt een stabiele output na meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% drift.
Waarom het standhoudt in litho
In de lithografie bepaalt de fotoresist bake het thermische budget. Met deze sensor kom je in de eerste partij op het doel en blijf je daar, partij na partij. Het aantal herbewerkingen daalt. De CD-regeling versmalt, defecten nemen af en de opbrengst wordt voorspelbaar.
Omdat de controleband strak is, bak je niet langer dan nodig, waardoor het energieverbruik daalt. Het platform ondersteunt 150 mm en 300 mm gereedschappen en past in bestaande ovens en sporen, waardoor het procesvenster precies blijft waar het moet zijn – binnen de specificaties.
De praktische details
Installatie betekent een speciale, afgeschermde thermokoppelverbinding en een kalibratie-offset die is afgestemd op jouw kamergeometrie. De inbedrijfstelling is kort: stem de emissiviteit en verblijftijd af voor jouw resiststapel.
De sensor is geschikt voor 24/7 werking, maar als de omgevingstemperatuur boven de 60% RV stijgt, heb je actieve purging nodig om de optiek droog te houden.
Voer een kwalificatie van 24 uur uit om het recept vast te leggen, en zet het daarna in werking.