http://qz-heating-ir.com/cs/tags/v%C3%BDse%C4%8D/ Recent content in Výseč on Quartz IR Heating Experts Hugo cs Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800 http://qz-heating-ir.com/cs/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800 http://qz-heating-ir.com/cs/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/ <p><img src="http://qz-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Očistná sušička nosičů waférů"></p> <p>V prostředí výroby nemůže nosič po zpracování ve sprejové lázni přinést vlhkost do <a href="https://o-yate.com">prostoru</a> určeného k litografii. Zbytkové filmy a stopy vody nejen snižují úrodu – způsobují také nutnost opakované práce a zvyšují nároky na tepelné zdroje při dalším zpracování. Sušička musí zajistit konzistentní stupeň sušení bez přidávání částic nebo nadměrného tepelného zatížení nosiče.</p> <p><strong>Co je důležité uvnitř systému</strong><br> Sušičku na čištění nosičů waferů jsme navrhli s využitím krátkovlnného infračerveného zahřívání. FIR zahřívá přímo vodu a tenké filmy, takže se nosič ne přehřívá. To umožňuje dosažení rovnoměrného tepelného pole v celé ploše nosiče – to se projevuje stabilní teplotou ±0,1 °C v kritické oblasti. Opakovatelnost je zajištěna díky uspořádání lamp a systému uzavřené smyčky – každý cyklus dosahuje stejného teplotního profilu. Systém funguje v prostorách s úrovní čistoty 1–100, je navržen tak, aby během provozu nevznikaly žádné částice, a odvod výfukových plynů je také speciálně navržen, aby zabránil jejich znovuvstupu do systému.</p>