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		<title>Fast on Quartz IR Heating Experts</title>
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				<title>Schnell trocknender Wafer nach dem Spülvorgang</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/de/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:36:23 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Schnell trocknender Wafer nach dem Spülvorgang&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle ist die Qualität des Abspülvorgangs nur so gut wie die Qualität des Trocknungsprozesses. Wasserflecken, Streifen sowie übrig gebliebene Feuchtigkeit nach dem Waschen &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;verringern&lt;/a&gt; die Effizienz – besonders bei Strukturen unter 28 nm. Standardheizelemente führen zu Verzögerungen beim Erwärmen; außerdem entstehen durch die Bewegung des Chucks ständig neue Partikel.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ein schneller Lampentrockner nach dem Abspülvorgang ermöglicht es uns, diesen Prozess schnell und kontrolliert abzuwickeln.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;haben&lt;/a&gt; die Lampe mit Halogenemittenten im Kurzwellen-Infrarotbereich in einer Quarzkapsel konstruiert. Die Reaktionszeit ist kurz, und das Spektrum liegt genau im Absorptionsbereich von Wasser. Die thermische Homogenität auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1 °C – dadurch bleibt die Integrität des Photoresists erhalten, wenn die Wafer anschließend den Weich- und Hartbackvorgängen unterzogen werden.&lt;/p&gt;</description>
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