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		<title>Oxidation on Quartz IR Heating Experts</title>
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				<title>Oxidationsheizelement für Wafer</title>
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				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:41:41 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Oxidationsheizelement für Wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Produktionsstätte führen thermische Schwankungen während der Oxidationsprozesse nicht nur dazu, dass bestimmte Werte auf dem Diagramm angezeigt werden – sie wirken sich auch negativ auf die Qualität des Endprodukts aus. Ein Temperaturanstieg von 2 °C kann die Schwellenspannungen verfälschen und wochenlange Anpassungen zunichte machen. Wir haben die Heizelemente für die Oxidation der Wafern so konzipiert, dass diese Variablen keine Rolle mehr spielen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&#xA;Das &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Heizelement&lt;/a&gt; besteht aus Quarz, strahlt Wärme ab und reagiert schnell sowie stabil. Die Temperaturgleichmäßigkeit auf der Waferoberfläche beträgt ±0,1 °C; die Wiederholgenauigkeit zwischen den einzelnen Prozesszyklen liegt bei weniger als 0,2 °C. Je nach Anforderung können kurzwellige oder mittelwellige Heizprofile verwendet werden: Schnelle Erwärmung für dünne Schichten, kontrollierte Erwärmung bei der Erzeugung dicker Oxidschichten.&lt;/p&gt;</description>
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