Trockner zur Reinigung von Waferträgern

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Auf dem Produktionsboden kann ein Träger, der nach der Reinigung durch den Entstaubungsprozess noch Feuchtigkeit enthält, diese Feuchtigkeit nicht in den Lithografiebereich mitnehmen. Verbleibende Schichten und Wasserspuren verringern nicht nur die Effizienz – sie erzwingen außerdem weitere Bearbeitungsschritte und belasten das Thermomanagement beim nächsten Trocknungsprozess. Der Trockner muss eine konstante Trockenheit gewährleisten, ohne dabei Partikel hinzuzufügen oder den Träger thermisch zu belasten.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben den Reinigungs- und Trocknungsapparat für Wafer-Träger auf Kurzwell-infrarot-Heizung basierend konstruiert. Infrarotwellen dringen direkt in Wasser sowie dünne Schichten ein, sodass der Quarzträger nicht überhitzt wird. Dadurch entsteht ein gleichmäßiges Wärmefeld über die gesamte Fläche des Trägers – was zu einer Konstanz von ±0,1 °C in der kritischen Zone führt. Die Wiederholbarkeit wird durch die Lampenanordnung sowie die geschlossene Regelung gewährleistet: Jeder Zyklus führt zu demselben Temperaturprofil, sodass die Bedingungen während des Trocknungsprozesses nicht durch Schwankungen beeinflusst werden. Das System kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden; es ist außerdem so konzipiert, dass während der Betrieb keine Partikel entstehen. Zudem ist der Abluftweg so gestaltet, dass keine Partikel wieder in den Prozesskreislauf gelangen können.

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Trockner zur Reinigung von Waferträgern