Trocknen on Quartz IR Heating Experts

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensorwafern

Wed, 22 Jul 2026 04:38:17 +0800

Die richtige Trocknung von MEMS-Wafern
Die Trocknung von MEMS-Sensorwafern ist eine echte Herausforderung. Wenn man die Temperaturkontrolle nicht genau richtig einstellt, entstehen Probleme durch Haftungseffekte oder Oberflächenspannungen – das kann die Sensoren zerstören. Um dies zu vermeiden, verwenden wir Infrarotheizelemente, um jegliche übrig gebliebenen Flüssigkeiten schnell zu verdampfen. Ziel ist es, die Feuchtigkeit zu entfernen, ohne die empfindlichen Membranen zu beschädigen.

Der Energiekonflikt
Was den Wärmefluss angeht, braucht man eine starke Energiedosis, um die Arbeit schnell erledigen zu können. Das Problem ist jedoch: Wenn die Leistung zu gering ist, zieht sich der Trocknungsprozess in die Länge – dadurch entstehen Wasserstellen auf dem Wafer. Wenn man hingegen zu viel Energie einsetzt, kann der Wafer verformt werden. Es handelt sich dabei um ein Gleichgewichtsproblem. Wir justieren Spannung und Leistung so, dass die Wärme gleichmäßig auf die Oberfläche des Wafers trifft. Denken Sie daran: Wenn Sie Hochleistungsheizelemente verwenden, muss auch die Kühlung des Geräts ausreichen – sonst entsteht zu viel Strahlungshitze.

Energieprüfung für den Trocknungsprozess in der Fabrik

Thu, 09 Jul 2026 04:42:54 +0800

Einführung
Stellen Sie sich vor: Sie bereiten sich auf einen „Smart Factory“-Betrieb vor – einen Ort, an dem alles durch Daten und Präzision gesteuert wird. Das Einzige, was Sie sich nicht leisten können, ist eine Heizquelle, die unzuverlässig oder langsam ist.
Deshalb haben wir unsere Infrarot-Trocknungsanlagen um Leuchtstoffelemente mit hoher Leistungsfähigkeit gebaut. Diese Elemente liefern sofortige, gezielte Wärme – und zwar in solchem Maße, dass sie bis ins kleinste Detail kontrolliert werden können. Sie passen perfekt in Ihren automatisierten Arbeitsablauf und verwandeln die Wärmebelieferung in einen vorhersehbaren und beherrschbaren Bestandteil Ihres Prozesses.

Schnell trocknender Wafer nach dem Spülvorgang

Thu, 02 Jul 2026 08:36:23 +0800

In der Fertigungshalle ist die Qualität des Abspülvorgangs nur so gut wie die Qualität des Trocknungsprozesses. Wasserflecken, Streifen sowie übrig gebliebene Feuchtigkeit nach dem Waschen verringern die Effizienz – besonders bei Strukturen unter 28 nm. Standardheizelemente führen zu Verzögerungen beim Erwärmen; außerdem entstehen durch die Bewegung des Chucks ständig neue Partikel.

Ein schneller Lampentrockner nach dem Abspülvorgang ermöglicht es uns, diesen Prozess schnell und kontrolliert abzuwickeln.

Was wichtig ist
Wir haben die Lampe mit Halogenemittenten im Kurzwellen-Infrarotbereich in einer Quarzkapsel konstruiert. Die Reaktionszeit ist kurz, und das Spektrum liegt genau im Absorptionsbereich von Wasser. Die thermische Homogenität auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1 °C – dadurch bleibt die Integrität des Photoresists erhalten, wenn die Wafer anschließend den Weich- und Hartbackvorgängen unterzogen werden.