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Manguito de cuarzo para lámpara IR de fabricación

Manguito de cuarzo para lámpara IR de fabricación

En la planta de fabricación, basta con un desvío de medio grado durante el proceso de secado del fotoreactivos para que todo el lote quede...
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Calentamiento por rayos infrarrojos en el proceso de cenización

Calentamiento por rayos infrarrojos en el proceso de cenización

En la sala de litografía, la cámara de eliminación de cenizas determina el perfil térmico necesario para eliminar el fotorevestimiento. Un desvío de...
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Lámpara de infrarrojos para recocido de semiconductores

Lámpara de infrarrojos para recocido de semiconductores

En la planta de fabricación, las fluctuaciones térmicas son algo inaceptable. Cualquier desviación en la temperatura durante el proceso de curado, o...
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Secador para limpieza de transportadores de obleas

Secador para limpieza de transportadores de obleas

En la sala de fabricación, el soporte para wafers que sale del sistema de limpieza no puede llevar consigo humedad hacia la zona de litografía. Las...
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Secador FOUP (Front Opening Unified Pod)

Secador FOUP (Front Opening Unified Pod)

En el área de litografía, ya se sabe cómo funciona todo: las FOUP llegan húmedas después del proceso de limpieza, y el tiempo es algo muy importante....
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Elemento calefactor de oxidación de obleas

Elemento calefactor de oxidación de obleas

En el área de fabricación, las variaciones térmicas durante la oxidación no se manifiestan solo como números en un gráfico; también afectan...
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Solución de problemas del calentador del sistema RTP

Solución de problemas del calentador del sistema RTP

En la planta de fabricación, los problemas relacionados con el calentador RTP no se manifiestan de forma evidente. Se manifestan como desviaciones en...
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Calentador de deposición por vapor químico (CVD)

Calentador de deposición por vapor químico (CVD)

En el taller de producción, cualquier cambio en la temperatura de la cámara se manifiesta rápidamente: como una falta de uniformidad en el espesor de...
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Curado por infrarrojos para adhesivo de semiconductores

Curado por infrarrojos para adhesivo de semiconductores

En una planta de fabricación 24/7, no hay tiempo para supervisar el curado de adhesivos. Una sola desviación de temperatura, un horneado no uniforme,...
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Sensor IR de precisión para obleas

Sensor IR de precisión para obleas

En la línea, ese wafer de 300 mm no puede permitirse deriva durante el horneado suave y el horneado duro. Un punto caliente de 2 °C en el campo...
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Calentador de temperatura de alta precisión

Calentador de temperatura de alta precisión

En la planta de producción, las variaciones térmicas no se detectan con una alerta, sino que se manifiestan como una disminución en el rendimiento....
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Repuestos para maquinaria de semiconductores calentador

Repuestos para maquinaria de semiconductores calentador

En la sala de fabricación, los pasos de horneado del fotorresistente no permiten margen de deriva. ¿Un horneado suave a 90°C que deriva ±2°C? Eso...
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Lámpara calefactora de semiconductor regulable

Lámpara calefactora de semiconductor regulable

En la planta de fabricación, la deriva térmica no es un tema de discusión: se mide en décimas de grado. Si se excede la temperatura del horneado...
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