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		<title>Cocción en Cenizas on Quartz IR Heating Experts</title>
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				<title>Calentamiento por rayos infrarrojos en el proceso de cenización</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/es/posts/ashing-process-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 06:58:30 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Calentamiento por rayos infrarrojos en el proceso de cenización&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la sala de litografía, la cámara de eliminación de cenizas determina el perfil térmico necesario para eliminar el fotorevestimiento. Un desvío de medio grado del valor establecido puede causar residuos en la superficie del wafer; peor aún, puede dañar la capa que se encuentra debajo. Un solo wafer defectuoso puede arruinar todo el proceso. El calentamiento por infrarrojos permite mantener ese perfil térmico estable.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;¿Qué es importante desde el punto de vista técnico?&lt;/strong&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Utilizamos&lt;/a&gt; emisores de infrarrojos de onda corta para transmitir calor directamente al fotorevestimiento. De esta manera, el calor se transfiere de forma rápida y precisa. La &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;uniformidad&lt;/a&gt; a nivel del wafer se mantiene dentro de un rango de ±0.1°C durante todo el proceso. Los emisores no contienen cuarzo, por lo que no se generan partículas, lo cual es ideal para entornos de clase 1–100. La repetibilidad del proceso es de ≤0.2% ciclo tras ciclo, independientemente de si el proceso se realiza después de un tratamiento térmico suave o duro.&lt;/p&gt;</description>
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