Sensor IR de precisión para obleas

Fri, 05 Jun 2026 04:07:08 +0800

En la línea, ese wafer de 300 mm no puede permitirse deriva durante el horneado suave y el horneado duro. Un punto caliente de 2 °C en el campo desplazará el CD, dejará residuos y convertirá un lote entero en chatarra. Necesita un control de temperatura que actúe como un verdadero parámetro de proceso, no como una mejor suposición.

Lo que importa bajo el capó

Construimos el sensor IR de precisión para el trabajo con wafers para mantener una uniformidad térmica de ±0.1 °C en toda la superficie de horneado. La repetibilidad del punto de ajuste se mantiene dentro de ±0.05 °C de un ciclo a otro. Funciona en sala limpia de Clase 1–100, con materiales y acabados que no generan partículas. Cero desgasificación, cero desprendimiento y nada que contamine el fotoresistente. Es compatible con fuentes de halógeno, cuarzo y NIR, y la respuesta espectral se mantiene estable, por lo que la absorción es consistente en todo el wafer. Obtiene una salida estable durante más de 5,000 horas, con menos del 5% de deriva.

Calentador de temperatura de alta precisión

Thu, 04 Jun 2026 03:31:30 +0800

En la planta de producción, las variaciones térmicas no se detectan con una alerta, sino que se manifiestan como una disminución en el rendimiento. Una deriva de 0.5°C durante el horneado del fotoresistente es suficiente para que el control de dimensión crítica quede fuera de especificación. ¿Y una placa caliente que no es uniforme? Aparecerán marcas de agua tras el secado del wafer. La pérdida no se limita a desperdicio, sino que afecta el cronograma.

Precisión on Quartz IR Heating Experts

Sensor IR de precisión para obleas

Lo que importa bajo el capó

Calentador de temperatura de alta precisión