Sécheur FOUP (Front Opening Unified Pod)

Mon, 22 Jun 2026 23:50:58 +0800

Sur le plan de lithographie, on connaît bien la procédure : les FOUP arrivent mouillées après nettoyage, et le temps presse. Si la température de séchage n’est pas parfaite, le photorésistant se forme en pellicule au lieu de se durcir correctement. Soudain, l’objectif devient de corriger les défauts plutôt que d’assurer une productivité maximale. Nous avons conçu ce sèche-FOUP pour empêcher cette dérive avant même qu’elle ne commence.

Ce qui est important en interne Nous maintenons une uniformité thermique de ±0,1 °C sur toute la surface des wafers, afin que chaque wafer bénéficie du même traitement thermique. Les ondes infrarouges à courte longueur d’onde permettent un chauffage rapide et direct, avec une faible inertie thermique. Cela permet de contrôler précisément les paramètres de séchage. La chambre est conçue pour répondre aux normes de classe 1–100, et les matériaux et joints utilisés visent à éliminer toute génération de particules. La répétabilité est assurée par des capteurs calibrés et un algorithme de boucle fermée qui compense les variations de masse des lots et les fluctuations environnementales. L’appareil fonctionne 24/7, et les données recueillies montrent aucune panne imprévue au cours de ses fonctionnements sur plusieurs mois.

FOUP on Quartz IR Heating Experts

Sécheur FOUP (Front Opening Unified Pod)