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		<title>Oxydation on Quartz IR Heating Experts</title>
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				<title>Élément chauffant pour l oxydation des wafer</title>
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				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:41:41 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Élément chauffant pour l oxydation des wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans les usines de fabrication, les fluctuations thermiques pendant l’oxydation ne se manifestent pas seulement par des chiffres sur un graphique : elles ont un impact direct sur le rendement de production. Une hausse de température de 2°C peut perturber les tensions de seuil et annuler des semaines de travail minutieux pour ajuster les paramètres. Nous avons conçu nos élé&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;ments&lt;/a&gt; chauffants pour l’oxydation des wafer afin d’éliminer ce facteur variable.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important du point de vue technique&lt;/strong&gt;&#xA;L’élément chauffant est basé sur du quartz, il émet de la chaleur de manière radiale, et il est conçu pour réagir rapidement tout en restant stable. On attend une uniformité de température de ±0,1°C sur toute la surface du wafer, avec une reproductibilité de cycle en cycle inférieure à 0,2°C. Il est possible de choisir des profils d’émission de chaleur à ondes courtes ou moyennes, en fonction des besoins en termes de gestion thermique : une montée en température rapide pour les couches fines, ou une régulation précise lors de la formation de couches épaisses.&lt;/p&gt;</description>
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