<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pembakaran on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/id/tags/pembakaran/</link>
		<description>Recent content in Pembakaran on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 06:58:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/id/tags/pembakaran/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Proses pembakaran menggunakan panas inframerah</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/id/posts/ashing-process-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 06:58:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/id/posts/ashing-process-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Proses pembakaran menggunakan panas inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di ruang proses litografi ini, chamber pengasapan berperan untuk &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;mengontrol&lt;/a&gt; suhu yang diperlukan agar lapisan fotoresist dapat dihilangkan dengan efektif. Jika suhu menyimpang sebesar setengah derajat dari nilai target, maka akan timbul sisa-sisa lapisan fotoresist yang tertinggal—atau bahkan merusak lapisan yang ada di bawahnya. Satu saja wafer yang rusak, maka seluruh proses produksi bisa gagal. Pemanasan menggunakan sinar inframerah memungkinkan kita untuk mengendalikan suhu secara akurat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting secara teknis?&lt;/strong&gt;&#xA;Kita menggunakan penghasil panas berbasis sinar inframerah berfrekuensi pendek agar panas dapat disalurkan langsung ke lapisan fotoresist—dengan cepat, secara langsung, dan dapat diprediksi. Kepadatan panas pada setiap wafer tetap stabil dalam kisaran ±0,1°C selama proses berlangsung. Desain penghasil panas ini tidak menggunakan kuarsa, sehingga tidak akan ada partikel yang terbentuk, yang sangat penting untuk lingkungan cleanroom kelas 1–100. Tingkat repetibilitasnya mencapai ≤0,2% dari siklus ke siklus, baik setelah proses pembakaran lembut &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;maupun&lt;/a&gt; keras, maupun setelah proses etching.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
