Pembersih dan pengering wadah wafer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Di area pabrik, kartrid yang telah diproses menggunakan metode basah tidak boleh membawa kelembapan ke dalam area litografi. Sisa-sisa film dan bekas air bukan hanya mengurangi tingkat efisiensi proses, tetapi juga memaksa dilakukannya proses perbaikan ulang, serta memberikan beban tambahan pada sistem pemanasan selama proses pembakaran berikutnya. Alat pengering harus mampu menghasilkan kondisi kering yang konsisten, tanpa menambah partikel atau memberi beban berlebih pada kartrid tersebut.

Apa yang penting di baliknya
Kami merancang alat pengering ini dengan menggunakan teknologi pemanasan inframerah gelombang pendek (NIR). NIR dapat menembus air dan lapisan tipis secara langsung, sehingga kartrid dapat dikeringkan tanpa menyebabkan overheating. Hal ini menciptakan medan termal yang seragam di seluruh permukaan kartrid, sehingga suhu di zona kritis tetap stabil pada kisaran ±0,1°C. Rekurensi proses pengeringan juga terjamin berkat desain lampu dan sistem kontrol tertutup yang digunakan; setiap siklus akan menghasilkan profil suhu yang sama, sehingga kondisi pengeringan tidak berubah akibat variabilitas proses. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan spesifikasi agar tidak menghasilkan partikel sama sekali selama pengoperasian. Selain itu, saluran pembuangan udara juga dirancang sedemikian rupa agar tidak memungkinkan partikel kembali masuk ke dalam sistem.

Pembersihan on Quartz IR Heating Experts

Pembersih dan pengering wadah wafer