Mengurangi Waktu Siklus dalam Proses Manufaktur Semikonduktor Kontrol IR Digital vs Sirkulasi Udara Panas
Mengapa kita beralih dari metode konvensional ke teknologi IR digital Coba pikirkan bagaimana cara kerja oven konveksi biasa. Udara dipanaskan...
Pembersih dan pengering wadah wafer
Di area pabrik, kartrid yang telah diproses menggunakan metode basah tidak boleh membawa kelembapan ke dalam area litografi. Sisa-sisa film dan bekas...
Pengering FOUP (Front Opening Unified Pod)
Di area litografi, prosedurnya sudah jelas: FOUP dikirim dalam keadaan basah setelah dicuci, dan waktu pun terus berjalan. Jika proses pemanasan...