Pembersih dan pengering wadah wafer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Di area pabrik, kartrid yang telah diproses menggunakan metode basah tidak boleh membawa kelembapan ke dalam area litografi. Sisa-sisa film dan bekas air bukan hanya mengurangi tingkat efisiensi proses, tetapi juga memaksa dilakukannya proses perbaikan ulang, serta memberikan beban tambahan pada sistem pemanasan selama proses pembakaran berikutnya. Alat pengering harus mampu menghasilkan kondisi kering yang konsisten, tanpa menambah partikel atau memberi beban berlebih pada kartrid tersebut.

Apa yang penting di baliknya
Kami merancang alat pengering ini dengan menggunakan teknologi pemanasan inframerah gelombang pendek (NIR). NIR dapat menembus air dan lapisan tipis secara langsung, sehingga kartrid dapat dikeringkan tanpa menyebabkan overheating. Hal ini menciptakan medan termal yang seragam di seluruh permukaan kartrid, sehingga suhu di zona kritis tetap stabil pada kisaran ±0,1°C. Rekurensi proses pengeringan juga terjamin berkat desain lampu dan sistem kontrol tertutup yang digunakan; setiap siklus akan menghasilkan profil suhu yang sama, sehingga kondisi pengeringan tidak berubah akibat variabilitas proses. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan spesifikasi agar tidak menghasilkan partikel sama sekali selama pengoperasian. Selain itu, saluran pembuangan udara juga dirancang sedemikian rupa agar tidak memungkinkan partikel kembali masuk ke dalam sistem.

Pengering FOUP (Front Opening Unified Pod)

Mon, 22 Jun 2026 23:50:58 +0800

Di area litografi, prosedurnya sudah jelas: FOUP dikirim dalam keadaan basah setelah dicuci, dan waktu pun terus berjalan. Jika proses pemanasan tidak dilakukan dengan tepat, lapisan fotoresist akan membeku sebelum benar-benar mengeras. Akibatnya, proses produksi akan terhambat oleh adanya cacat-cacat tersebut. Kami membuat alat pengering FOUP untuk mencegah hal ini terjadi.

Yang penting dari segi teknis
Kami mempertahankan keseragaman suhu pada tingkat wafer hingga ±0,1°C di seluruh bagian FOUP, sehingga setiap wafer mendapatkan kondisi termal yang sama. Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek digunakan untuk pemanasan yang cepat dan efektif, dengan inersia termal yang rendah. Ruangan tempat alat ini beroperasi memenuhi standar kelas 1–100, dan bahan serta komponen yang digunakan dirancang untuk menghindari pembentukan partikel. Keakuratan hasil pemrosesan didapat dari sensor yang telah dikalibrasi dengan baik, serta algoritma kontrol tertutup yang mampu mengkompensasi perubahan massa batch dan pengaruh lingkungan sekitar. Alat ini dapat beroperasi 24/7, dan data operasional menunjukkan bahwa tidak ada downtime yang tidak terduga selama beberapa bulan penggunaannya.

Pengering on Quartz IR Heating Experts

Pembersih dan pengering wadah wafer

Pengering FOUP (Front Opening Unified Pod)