Lampada a infrarossi per l annealing dei semiconduttori

Fri, 26 Jun 2026 04:56:17 +0800

Nelle linee di produzione, le fluttuazioni termiche sono inaccettabili. Una variazione nella temperatura di cottura, un profilo di annichilimento non corretto… tutto questo porta a problemi legati al controllo delle dimensioni dei componenti, alla presenza di residui di materiale sulle superfici dei wafer e a una ridotta resa produttiva. Abbiamo progettato la nostra lampada a infrarossi per l’annichilimento dei semiconduttori in modo che possa soddisfare le esigenze dei processi più avanzati.

Dal punto di vista tecnico, ciò che conta è il controllo preciso delle condizioni termiche. Utilizziamo raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda, contenuti in un involucro di quarzo ad alta risposta, in modo da fornire energia direttamente sulla superficie del wafer. La lampada assicura una uniformità termica di ±0,1°C nell’intera zona di cottura, così che ogni componente riceva lo stesso trattamento termico. L’output rimane stabile tra 300°C e 550°C, con una precisione superiore a ±0,2°C da ciclo a ciclo.

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