Asciugatore per pulizia dei contenitori per wafer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Sul piano di lavorazione, il supporto su cui è posizionata la wafer, una volta uscito dal sistema di pulizia, non può trasportare umidità all’interno della stanza di litografia. I film residui e le tracce d’acqua non solo riducono la resa del processo, ma costringono anche a effettuare ulteriori operazioni di correzione, compromettendo così il bilancio termico necessario per la successiva fase di trattamento termico. Il dispositivo di essiccazione deve quindi garantire un livello di umidità costante, senza aggiungere particelle o sollecitare troppo termicamente il supporto su cui è posizionata la wafer.

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Asciugatore per pulizia dei contenitori per wafer