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		<title>헹구다 on Quartz IR Heating Experts</title>
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				<title>린스 램프를 사용한 후에도 빠르게 건조되는 웨이퍼</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ko/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:36:24 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;린스 램프를 사용한 후에도 빠르게 건조되는 웨이퍼&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;생산 현장에서는, 세척 과정의 효과는 건조 과정의 효과에 달려 있습니다. 세척 후 남은 물자나 스크래치, 수분은 생산 효율을 급격히 저하시킵니다. 특히 28nm 이하의 초미세 공정에서는 그 영향이 더욱 심각합니다. 일반적인 가열 장치를 사용하면 열 전달이 느려지고, 칩을 위아래로 움직일 때마다 입자가 발생할 수 있습니다.&lt;/p&gt;</description>
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