Di bahagian litografi, bilik pemanasan digunakan untuk menentukan suhu yang sesuai untuk menghilangkan bahan fotoresist tersebut. Jika suhu berbeza sedikit daripada nilai yang ditetapkan, ia akan menyebabkan sisa bahan fotoresist tertinggal, atau lebih teruk lagi, merosakkan lapisan di bawahnya. Satu keping wafer yang rosak saja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses pengeluaran. Pemanasan menggunakan sinar inframerah membolehkan kita mengawal suhu dengan tepat.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kita menggunakan penghasil sinar inframerah gelombang pendek untuk menghantar haba secara langsung ke lapisan fotoresist. Ini memastikan proses pemanasan berlaku dengan cepat dan efisien. Konsistensi suhu pada setiap keping wafer adalah dalam lingkungan ±0.1°C. Reka bentuk penghasil sinar inframerah ini tidak menggunakan bahan kuarsa, jadi tiada partikel yang terbentuk, yang sangat penting untuk mencapai standard bilik bersih kelas 1–100. Ketepatan proses pemanasan adalah ≤0.2%, sama ada selepas proses pembakaran lembut, pembakaran keras, atau proses etching.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran
Dalam proses pengeluaran, proses pemanasan perlu dilakukan dengan cepat tanpa menimbulkan sisa bahan yang tidak diingini. Pengawalan suhu yang ketat membantu mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses pemanasan, serta mengurangkan penggunaan tenaga. Hasilnya, terdapat kurang sisa bahan, kekurangan kecacatan, dan kawalan ketebalan lapisan yang konsisten selepas proses etching. Sistem ini boleh digunakan bersama-sama dengan mesin-mesin sedia ada tanpa perlu mengubah struktur antaramuka haba, sekaligus membolehkan masa pengeluaran dikurangkan tanpa perlu melabur banyak modal.
Apa yang perlu diperhatikan
Proses pemanasan menggunakan sinar inframerah memerlukan pandangan yang jelas ke arah permukaan wafer. Perbezaan kemampuan penyerapan haba pada bahagian belakang wafer dan lapisan logam boleh menyebabkan masalah. Kita perlu menyesuaikan saiz penghasil sinar inframerah dan spektrumnya agar penyerapan haba menjadi lebih seragam. Namun, susunan bilik pemanasan masih perlu memastikan pandangan yang jelas ke arah wafer. Proses penyesuaian awal diperlukan untuk mendapatkan profil suhu yang sesuai; setelah itu, proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar.