<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bilas on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/ms/tags/bilas/</link>
		<description>Recent content in Bilas on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:36:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/ms/tags/bilas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wafer yang kering dengan cepat selepas dibersihkan menggunakan lampu.</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:36:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Wafer yang kering dengan cepat selepas dibersihkan menggunakan lampu.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pembersihan, kualiti proses pengeringan bergantung sepenuhnya pada kualiti proses pengeringan selepas mencuci. Kesan air, kesan garisan, serta kelembapan yang tinggal selepas pencucian akan merosakkan kualiti wafer – terutamanya pada saiz yang kurang dari 28nm. Penggunaan panas biasa akan menyebabkan kelewatan dalam proses pengeringan, dan setiap kali suhu ditingkatkan atau diturunkan, ia akan meningkatkan risiko pembentukan zarah-zarah kecil.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Penggunaan lampu pengeringan yang cepat merupakan cara untuk mempercepatkan proses pengeringan dengan lebih efektif dan terkawal.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
