Mengeringkan on Quartz IR Heating Experts

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Wed, 22 Jul 2026 04:38:17 +0800

Cara yang Betul untuk Mengeringkan Wafer MEMS

Mengeringkan wafer sensor MEMS merupakan proses yang memerlukan ketepatan yang tinggi. Jika kawalan suhu tidak dilakukan dengan betul, ia akan menyebabkan masalah seperti tegangan permukaan yang berlebihan, yang seterusnya merosakkan sensor tersebut. Untuk mengatasi masalah ini, kita menggunakan unsur pemanasan inframerah untuk memastikan cecair yang tinggal hilang sepenuhnya. Tujuannya adalah untuk menghilangkan kelembapan tanpa merosakkan membran halus tersebut.

Cabaran Berkaitan Tenaga Panas
Untuk mencapai hasil yang baik, diperlukan tenaga panas yang mencukupi. Masalahnya ialah, jika kuasa yang digunakan terlalu rendah, proses pengeringan akan berlangsung lama, dan akibatnya akan timbul bintik-bintik air pada wafer. Namun, jika kuasa yang digunakan terlalu tinggi pula, wafer akan rosak. Ia merupakan proses yang memerlukan keseimbangan yang tepat. Kita perlu menyesuaikan voltan dan kuasa agar haba dapat disalurkan secara merata ke permukaan wafer. Ingatlah, jika anda menggunakan tiub berkuasa tinggi, sistem penyejukan perlu cukup efektif, agar haba berlebihan tidak merosakkan komponen lain.

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Thu, 09 Jul 2026 04:42:54 +0800

Pendahuluan
Bayangkanlah: Anda sedang bersiap untuk membina kilang pintar, di mana segala-galanya berjalan berdasarkan data dan ketepatan yang tinggi. Satu perkara yang tidak boleh diterima ialah adanya sumber haba yang tidak konsisten atau lambat berfungsi.

Itulah sebabnya kami mencipta sistem pengeringan inframerah yang menggunakan unsur halogen berkuasa tinggi. Unsur ini mampu menghasilkan haba secara segera dan terkawal. Anda boleh mengawal suhu haba tersebut dengan tepat hingga ke tahap yang paling kecil sekalipun. Sistem ini sesuai digunakan dalam proses automatik, kerana ia mengubah proses pemberian haba daripada sesuatu yang tidak dapat diramalkan kepada sesuatu yang boleh dikawal sepenuhnya.

Wafer yang kering dengan cepat selepas dibersihkan menggunakan lampu.

Thu, 02 Jul 2026 08:36:24 +0800

Di bilik pembersihan, kualiti proses pengeringan bergantung sepenuhnya pada kualiti proses pengeringan selepas mencuci. Kesan air, kesan garisan, serta kelembapan yang tinggal selepas pencucian akan merosakkan kualiti wafer – terutamanya pada saiz yang kurang dari 28nm. Penggunaan panas biasa akan menyebabkan kelewatan dalam proses pengeringan, dan setiap kali suhu ditingkatkan atau diturunkan, ia akan meningkatkan risiko pembentukan zarah-zarah kecil.

Penggunaan lampu pengeringan yang cepat merupakan cara untuk mempercepatkan proses pengeringan dengan lebih efektif dan terkawal.