<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pembawa on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/ms/tags/pembawa/</link>
		<description>Recent content in Pembawa on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/ms/tags/pembawa/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemadam dan pengering pembawa wafer</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemadam dan pengering pembawa wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di dalam bilik pengolahan wafer yang bersih, bahan pembawa yang telah diproses secara basah tidak boleh membawa kelembapan masuk ke kawasan litografi. Sisa-sisa filem dan kesan air bukan sahaja mengurangkan kecekapan proses, tetapi juga memaksa proses pembaikan semula, sekaligus menambah beban pada proses pemanasan seterusnya. Pengering perlu memberikan hasil pengeringan yang konsisten, tanpa menambah zarah-zarah tertentu atau memberi tekanan terhadap bahan pembawa tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina pengering ini menggunakan kaedah pemanasan inframerah gelombang pendek (NIR). NIR dapat meresap terus ke dalam air dan lapisan filem yang tipis, sekaligus memungkinkan pengeringan tanpa memanaskan bahan pembawa tersebut secara berlebihan. Ini menyebabkan pengagihan haba yang seragam di seluruh permukaan bahan pembawa, sehingga suhu di kawasan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;kritikal&lt;/a&gt; dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Repeatabiliti yang tinggi dicapai melalui susunan lampu yang tepat serta sistem kawalan berulang-ulang; setiap kitaran akan mencapai suhu yang sama, sehingga kondisi pemanasan tidak berubah akibat variasi pengeringan. Sistem ini boleh beroperasi di bilik bersih kelas 1–100, dan direka untuk menghasilkan sifar zarah semasa operasi. Saluran ekzos juga telah disahkan untuk mencegah kemasukan semula zarah-zarah tersebut.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
