Pemadam dan pengering pembawa wafer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Di dalam bilik pengolahan wafer yang bersih, bahan pembawa yang telah diproses secara basah tidak boleh membawa kelembapan masuk ke kawasan litografi. Sisa-sisa filem dan kesan air bukan sahaja mengurangkan kecekapan proses, tetapi juga memaksa proses pembaikan semula, sekaligus menambah beban pada proses pemanasan seterusnya. Pengering perlu memberikan hasil pengeringan yang konsisten, tanpa menambah zarah-zarah tertentu atau memberi tekanan terhadap bahan pembawa tersebut.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina pengering ini menggunakan kaedah pemanasan inframerah gelombang pendek (NIR). NIR dapat meresap terus ke dalam air dan lapisan filem yang tipis, sekaligus memungkinkan pengeringan tanpa memanaskan bahan pembawa tersebut secara berlebihan. Ini menyebabkan pengagihan haba yang seragam di seluruh permukaan bahan pembawa, sehingga suhu di kawasan kritikal dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Repeatabiliti yang tinggi dicapai melalui susunan lampu yang tepat serta sistem kawalan berulang-ulang; setiap kitaran akan mencapai suhu yang sama, sehingga kondisi pemanasan tidak berubah akibat variasi pengeringan. Sistem ini boleh beroperasi di bilik bersih kelas 1–100, dan direka untuk menghasilkan sifar zarah semasa operasi. Saluran ekzos juga telah disahkan untuk mencegah kemasukan semula zarah-zarah tersebut.

FOUP (Front Opening Unified Pod) – Pengering

Mon, 22 Jun 2026 23:50:58 +0800

Di bilik litografi ini, prosedurnya sudah jelas: FOUP dibawa masuk dalam keadaan basah setelah dicuci, dan masa untuk proses pemanasan pun sudah mula berjalan. Jika suhu pemanasan tidak tepat, lapisan photoresist akan membentuk kerak daripada dapat disetkan dengan betul. Akibatnya, proses pembuatan produk akan terganggu. Kami mencipta alat pengering FOUP untuk mengelakkan masalah ini daripada berlaku.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami memastikan keseragaman suhu pada setiap wafer pada tahap ±0.1°C, agar setiap wafer mendapat suhu yang sama. Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek digunakan untuk pemanasan yang cepat dan efektif, dengan inersia termal yang rendah. Ini membolehkan proses pemanasan berjalan dengan lancar. Bilik ini sesuai untuk digunakan dalam lingkungan bersih kelas 1–100. Bahan-bahan dan komponen yang digunakan dipilih agar tiada zarah terbentuk. Ketepatan proses ini dicapai melalui sensor yang telah dikalibrasi dengan baik, serta algoritma yang dapat menyesuaikan diri dengan perubahan suhu. Alat ini beroperasi 24/7, dan data yang diperoleh menunjukkan tiada masa henti yang tidak dijangka sepanjang beberapa bulan penggunaannya.

Pengering on Quartz IR Heating Experts

Pemadam dan pengering pembawa wafer

FOUP (Front Opening Unified Pod) – Pengering