<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wap on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/ms/tags/wap/</link>
		<description>Recent content in Wap on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 05:57:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/ms/tags/wap/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas CVD (Chemical Vapor Deposition)</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 05:57:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/ms/posts/cvd-chemical-vapor-deposition-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas CVD (Chemical Vapor Deposition)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses pengeluaran, perubahan suhu di dalam bilik tersebut akan berlaku dengan cepat – ini akan menyebabkan ketidakteraturan ketebalan lapisan bahan yang digunakan, serta penurunan kadar pengeluaran produk. Perkara ini tidak dapat diperbaiki setelah proses berlangsung. Pemanas perlu memastikan keadaan termal tetap stabil, dari wafer pertama hingga wafer terakhir.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;penting&lt;/a&gt; dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina pemanas CVD menggunakan unsur halogen inframerah gelombang pendek yang terletak di belakang kaca kuarsa. Panas akan sampai terus ke permukaan substrat, dan ketidakteraturan suhu pada tahap wafer dapat dikurangkan hingga ±0.1°C. Profil termal ini akan berulang setiap kali proses berlangsung, sehingga keadaan termal tetap terkawal.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
