<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Drager on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/nl/tags/drager/</link>
		<description>Recent content in Drager on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/nl/tags/drager/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reinigingsdroger voor waferdragers</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/nl/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/nl/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Reinigingsdroger voor waferdragers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn kan een drager die met een natte behandeling is gereinigd, de vochtigheid niet meenemen naar de lithografiecel. Overblijvende filmlagen en watersporen verminderen niet alleen de opbrengst, maar vereisen ook herwerkzaamheden en beperken bovendien het mogelijk aantal ovensbeurten. De droger moet een consistente droogte bereiken, zonder dat er nieuwe deeltjes worden gegenereerd of dat de drager te veel wordt belast door hitte.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat belangrijk is onder de motorkap&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wij hebben de droger voor het reinigen van waferdragers ontworpen met behulp van kortegolffrequent infraroodverwarming (NIR). NIR dringt recht door water en dunne lagen heen, zodat de drager niet te heet wordt. Hierdoor ontstaat er een uniforme temperatuur over het oppervlak van de drager, met een nauwkeurigheid van ±0,1°C in de kritische zone. De herhaalbaarheid wordt gewaarborgd door de lampen en het gesloten regelsysteem: elke cyclus leidt tot dezelfde temperatuurverschillen. Hierdoor worden de condities tijdens het drogen stabiel gehouden. Het systeem kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100. Er wordt geen sprake van deeltjevorming tijdens het gebruik, en de uitlaatweg is zo ontworpen dat er geen deeltjes terugkeren in het systeem.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
