Wafel on Quartz IR Heating Experts

Energiezuinige waferverwarmer

Tue, 28 Jul 2026 05:04:46 +0800

Stop de scherven: uw wafers schoon houden wanneer lampen kapotgaan

Op een productielijn met hoge productiecapaciteit is het kapotgaan van een lamp meer dan alleen een irritante stilstand. Het is een nachtmerrie.
Wanneer een kwartsbuis kapotgaat, vallen er glasfragmenten en halogeengas recht op uw wafers. Dat betekent dat de hele lading onbruikbaar wordt. En de opruimwerkzaamheden? Een complete schoonmaak van de kamer is wel het laatste waar iemand op een dinsdag zin in heeft.
Wij bouwen onze infraroodverwarmers zodat dit niet gebeurt. Dat komt neer op de materialen die we kiezen en de barrières die we invoeren.

Veilige afstand voor chipverwarming

Fri, 24 Jul 2026 11:32:46 +0800

Waarom infrarood beter is dan hete lucht voor het verwerken van wafers
Als je nog steeds afhankelijk bent van hete luchtcirculatie, breng je in feite de helft van je tijd door met wachten. Het gaat niet om ‘beter’ apparatuur, maar om efficiëntie. Bij het diepverwerken van materiaal is hete luchtcirculatie een slechte manier om warmte over te dragen. Je verspilt minutenlang tijd – minuten die zich opstapelen bij duizenden wafers – alleen maar omdat je moet wachten tot de hete lucht de warmte naar het materiaal kan brengen.

Temperatuursensor voor waferopstelling

Thu, 23 Jul 2026 11:38:34 +0800

Voorkom dat kapotte lampen je wafers beschadigen
In apparaten die veel wafers verwerken, is het kapotgaan van een lamp meer dan alleen een lastig probleem of wat stilstand. Het is een nachtmerrie.
Als de kwartskamer barst, vallen er scherpe glasdeeltjes en geëvaporeerd wolfraam op de wafers. Dat betekent dat de hele lading wafers onbruikbaar wordt. Daarnaast moet de hele kamer grondig worden schoongemaakt. Niemand wil zijn weekend besteden aan zulke klusjes.

Omgaan met de hitte
We bouwen onze infraroodlampen zo dat ze bestand zijn tegen de constante, strenge omstandigheden in semiconductieapparaten. Meestal gaan lampen kapot omdat de thermische uitzetting oneffen is – het glas kan de temperatuurschommelingen niet bijhouden.
Om dit op te lossen gebruiken we synthetisch kwarts van hoge zuiverheid. Dit materiaal is sterk en kan de snelle temperatuurschommelingen doorstaan zonder te breken.
Maar we stoppen daar niet bij. We gebruiken ook een ‘veiligheidsnetwerk’: we wikkelen de emissoren in een broodschaalbestendige huls of gebruiken een speciale laag. Op deze manier blijven de brokstukken binnenin zitten, zodat ze je producten niet beschadigen.

HEATER VOOR DROGEN VAN MEMS SENSORMOLDPLAKJES

Wed, 22 Jul 2026 04:38:17 +0800

Het correct drogen van MEMS-chips
Het drogen van MEMS-sensorschijven vereist veel precisie. Als de thermische controle niet goed wordt uitgevoerd, kan dat leiden tot problemen als sticking of oppervlaktespanning, waardoor de sensoren beschadigd raken. Om dit te voorkomen gebruiken we infraroodverwarmingselementen om eventuele overtollige vloeistoffen snel te verdampen. Het doel is om het vocht te verwijderen zonder de kwetsbare membranen te beschadigen.

De krachtproef
Als het gaat om de warmtestroom, heeft men een sterke energiestoot nodig om het proces snel af te ronden. Het probleem is dat als de vermogenssterkte te laag is, het droogproces langzaam verloopt en er watervlekken ontstaan. Maar als de vermogenssterkte te hoog is, kan de chip beschadigen. Het is dus een kwestie van evenwicht vinden. We passen de spanning en vermogenssterkte aan zodat de warmte gelijkmatig op het oppervlak terechtkomt. Onthoud dat als je lampen met hoge vermogens gebruikt, de koeling van het apparaat ook goed moet werken, anders zal er te veel stralingswarmte vrijkomen.

Reflector voor wafer curing lamp

Wed, 22 Jul 2026 04:23:10 +0800

Het maximale uit het droogproces van uw wafers halen
Tijdens het droogproces van wafers moet u een balans vinden. U moet de oplosmiddelen uit de wafers halen of de juiste chemische reactie teweegbrengen. Maar u kunt de hitte niet zomaar verhogen, want anders wordt het substraat beschadigd.

Hier komt de rol van de reflectoren om de hoek kijken. Wij gebruiken reflectoren die met goud zijn bedekt. Eerlijk gezegd willen we namelijk niet dat de infrarode energie in het machinechassis terechtkomt en verspild wordt.

Snel drogend wafer na spoellamp

Thu, 02 Jul 2026 08:36:24 +0800

Op de productielijn is de kwaliteit van het afspoelen even belangrijk als de kwaliteit van het drogen. Watervlekken, strepen en restanten van vocht na het wassen kunnen de kwaliteit van het product snel verminderen – vooral bij een dikte van minder dan 28 nm. Gebruik je standaard warmtebronnen? Dan ontstaat er vertraging in de warmteoverdracht, en elke keer dat de draaimachine wordt bediend, ontstaan er nieuwe deeltjes.

Een snelle lampdroger na het afspoelen is de oplossing om dit probleem snel en effectief op te lossen.

Reinigingsdroger voor waferdragers

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Op de productielijn kan een drager die met een natte behandeling is gereinigd, de vochtigheid niet meenemen naar de lithografiecel. Overblijvende filmlagen en watersporen verminderen niet alleen de opbrengst, maar vereisen ook herwerkzaamheden en beperken bovendien het mogelijk aantal ovensbeurten. De droger moet een consistente droogte bereiken, zonder dat er nieuwe deeltjes worden gegenereerd of dat de drager te veel wordt belast door hitte.

Wat belangrijk is onder de motorkap
Wij hebben de droger voor het reinigen van waferdragers ontworpen met behulp van kortegolffrequent infraroodverwarming (NIR). NIR dringt recht door water en dunne lagen heen, zodat de drager niet te heet wordt. Hierdoor ontstaat er een uniforme temperatuur over het oppervlak van de drager, met een nauwkeurigheid van ±0,1°C in de kritische zone. De herhaalbaarheid wordt gewaarborgd door de lampen en het gesloten regelsysteem: elke cyclus leidt tot dezelfde temperatuurverschillen. Hierdoor worden de condities tijdens het drogen stabiel gehouden. Het systeem kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100. Er wordt geen sprake van deeltjevorming tijdens het gebruik, en de uitlaatweg is zo ontworpen dat er geen deeltjes terugkeren in het systeem.

Waferoxidatieverwarmingsonderdeel

Mon, 22 Jun 2026 23:41:42 +0800

Op de productielijn hebben thermische schommelingen tijdens het oxidatieproces niet alleen invloed op de cijfers op het grafiekblad – ze hebben ook een grote impact op de kwaliteit van het eindproduct. Een temperatuurstijging van 2°C kan de drempelspanningen verstoren en wekenlange aanpassingen tenietdoen. We hebben de verwarmings-elementen voor de oxidatie van siliciumchips zo ontworpen dat deze variabelen geen rol spelen meer.

Wat technisch gezien belangrijk is:
Het element is gemaakt van kwarts en werkt op basis van straling. Het kan snel reageren en blijft stabiel. Er moet een uniformiteit van ±0,1°C zijn over het hele oppervlak van de chip, en de herhaalbaarheid tussen verschillende cycli moet minder dan 0,2°C zijn. Kies voor kortegolven- of middengolffuncties om het gewenste thermische effect te bereiken: snelle opwarming voor dunne lagen, gecontroleerde verwarming wanneer er dikkeioxiden worden gevormd.

Precisie IR sensor voor wafer

Fri, 05 Jun 2026 04:07:08 +0800

Op de lijn

Die 300 mm wafer kan geen drift veroorloven tijdens de soft bake en hard bake. Een hotspot van 2°C over het veld zal de CD verschuiven, schilfers achterlaten en een hele batch tot schroot maken. Je hebt temperatuurregeling nodig die functioneert als een echt procesparameter, niet als een beste gok.

Wat er onder de motorkap belangrijk is

We hebben de precisie IR-sensor voor waferwerk ontwikkeld om een thermische uniformiteit van ±0,1°C over het bakoppervlak te behouden. De herhaalbaarheid van de instelwaarde blijft binnen ±0,05°C van run tot run.
Het werkt in cleanroom Class 1–100, met materialen en afwerkingen die geen deeltjes afgeven. Geen uitgassing, geen afschilfering en niets dat de fotoresist verontreinigt.
Het werkt samen met halogeen-, quartz- en NIR-bronnen, en de spectrale respons blijft stabiel, zodat de absorptie consistent is over de wafer. Je krijgt een stabiele output na meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% drift.