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		<title>Cinzeração on Quartz IR Heating Experts</title>
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		<description>Recent content in Cinzeração on Quartz IR Heating Experts</description>
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				<title>Processo de aquecimento por infravermelho para cinzamento</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/pt/posts/ashing-process-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 06:58:30 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Processo de aquecimento por infravermelho para cinzamento&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No setor de litografia, a câmara de eliminação de resíduos determina o balanço térmico necessário para a remoção do fotoresistente. Qualquer desvio de meio grau em relação ao ponto de referência pode causar resíduos – ou, pior ainda, danos à camada abaixo dele. Um único wafer com defeito pode comprometer todo o processo. O aquecimento por infravermelho permite que se controle esse perfil térmico com precisão.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante, tecnicamente:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Usamos emissores de infravermelho de onda curta para transmitir calor diretamente para a camada de fotoresistente – de maneira rápida, direta e previsível. A uniformidade em todo o wafer fica dentro de ±0,1°C durante todo o processo. O design dos emissores não utiliza quartzo, portanto não há geração de partículas, o que é essencial para ambientes de classe 1–100. A repetibilidade é de até 0,2% de desvio de ciclo em ciclo, independentemente de se o processo ocorre após cozimento suave, cozimento forte ou etching.&lt;/p&gt;</description>
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