Кварцевая втулка для инфракрасной лампы
На производственной площадке достаточно всего лишь полуградусного смещения температуры во время высушивания фотополимера, чтобы испортить целую...
Процесс обжига с использованием инфракрасного нагрева
На площадке для литографии камера для обжига определяет температурные параметры, необходимые для удаления фотопленки. Даже небольшое отклонение на...
Инфракрасная лампа для аннерования полупроводников
На производственной площадке термические отклонения категорически недопустимы. Любые изменения температуры во время процесса отжига, несоблюдение...
Сушилка для очистки поддонов для вафер
На производственной площадке носитель, прошедший процедуру очистки с использованием влажного метода, не может пронести влагу в зону литографии....
Сушильный аппарат FOUP (Front Opening Unified Pod)
На этапе литографии все происходит по определенному алгоритму: FOUP-корпуса прибывают с чистыми пластинами после их очистки, и время работает против...
Элемент нагрева для окисления ваферов
На производственном участке температурные колебания во время процесса оксидации проявляются не просто как числа на графиках — они серьезно влияют на...
Устранение неисправностей нагревателя в системе RTP
На производственной линии сбои в работе нагревателя RTP не проявляются явно. Они проявляются в отклонениях при процессе тепловой обработки, изменении...
Нагреватель CVD (химическое осаждение из паров)
На производственном полу любые изменения температуры в камере сразу же сказываются на качестве изделий — возникает неравномерность толщины пленки и...
Инфракрасное отверждение для полупроводникового клея
На производственном помещении с непрерывным режимом 24/7 нет времени контролировать отверждение клея вручную. Одна температурная девиация, один...
Прецизионный ИК датчик для пластин
На линии 300 мм подложка не может позволить себе дрейф во время мягкой и жесткой обжарки. Точка нагрева на 2°C по всей площади изменит CD, оставит...
Высокоточный температурный нагреватель
На производственном участке тепловые отклонения не сопровождаются предупреждениями — они проявляются в виде снижения выхода годных изделий....
Запасные части для оборудования полупроводников нагреватель
На производственном участке этапы сушки фотоresиста не допускают отклонений. Мягкая сушка при 90°C с дрейфом ±2°C? Это приводит к разбуханию профиля...
Регулируемая по яркости полупроводниковая нагревательная лампа
На производственном участке тепловой дрейф не обсуждается — его измеряют в десятых долях градуса. Если перегреть soft bake даже на долю, контроль...