<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Отжиг on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D0%B6%D0%B8%D0%B3/</link>
		<description>Recent content in Отжиг on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:56:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D0%B6%D0%B8%D0%B3/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Инфракрасная лампа для аннерования полупроводников</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ru/posts/semiconductor-annealing-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:56:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/ru/posts/semiconductor-annealing-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Инфракрасная лампа для аннерования полупроводников&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке термические отклонения категорически недопустимы. Любые изменения температуры во время процесса отжига, несоблюдение правил проведения процедуры отжига приводят к снижению качества продукции: ухудшается контроль толщины слоя, возникают остаточные отложения на поверхности пластины, что снижает производительность. Мы разработали инфракрасную лампу для процедуры отжига полупроводников, соответствующую требованиям современных технологий.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;С технической точки зрения важен контроль параметров процесса. Мы используем коротковолновый инфракрасный свет, который поступает прямо в поверхность пластины через кварцевую оболочку с быстрой реакцией. Лампа обеспечивает температурную однородность в диапазоне от ±0,1°C, что позволяет каждой пластинке получать одинаковые условия отжига. Выходная мощность остается стабильной в диапазоне от 300°C до 550°C, при этом точность повторяемости составляет менее ±0,2°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
