Процесс обжига с использованием инфракрасного нагрева

Mon, 29 Jun 2026 06:58:30 +0800

На площадке для литографии камера для обжига определяет температурные параметры, необходимые для удаления фотопленки. Даже небольшое отклонение на полградуса от установленного значения может привести к остаткам материала на поверхности или, что ещё хуже, к повреждению слоя под ним. Один бракованный кристалл может испортить всю партию продукции. Инфракрасное нагревание позволяет поддерживать нужный температурный профиль.

Что имеет значение с технической точки зрения? Мы используем излучатели коротковолнового инфракрасного света, чтобы направлять тепло непосредственно в слой фотопленки – это делается быстро, эффективно и предсказуемо. Равномерность температуры на поверхности кристалла составляет ±0,1°C в течение всего процесса. Конструкция излучателей не содержит кварца, поэтому не возникает частиц, что крайне важно для условий чистого цеха класса 1–100. Повторяемость процесса составляет ≤0,2% от цикла к циклу, независимо от того, происходит ли процедура после мягкой или жесткой обработки, или после эчинга.

Пепелище on Quartz IR Heating Experts

Процесс обжига с использованием инфракрасного нагрева