<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Перевозчик on Quartz IR Heating Experts</title>
		<link>http://qz-heating-ir.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B5%D1%80%D0%B5%D0%B2%D0%BE%D0%B7%D1%87%D0%B8%D0%BA/</link>
		<description>Recent content in Перевозчик on Quartz IR Heating Experts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://qz-heating-ir.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B5%D1%80%D0%B5%D0%B2%D0%BE%D0%B7%D1%87%D0%B8%D0%BA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Сушилка для очистки поддонов для вафер</title>
				<link>http://qz-heating-ir.com/ru/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://qz-heating-ir.com/ru/posts/wafer-carrier-cleaning-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://qz-heating-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Сушилка для очистки поддонов для вафер&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке носитель, прошедший процедуру очистки с использованием влажного метода, не может пронести влагу в зону литографии. Остаточные слои пленки и следы воды снижают качество продукции, требуют повторной обработки и увеличивают нагрузку на систему отопления при последующей обработке. Сушильный аппарат должен обеспечить единообразную степень высыхания без появления частиц и без избыточной нагрузки на носитель.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно внутри устройства&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разработали сушильный аппарат для очистки подложек с использованием тепла коротковолнового инфракрасного излучения. Это излучение проникает прямо в воду и тонкие слои пленки, что позволяет высушивать подложку без перегрева кварцевого носителя. Это обеспечивает единообразное тепловое поле на всей поверхности подложки; стабильность температуры составляет ±0,1°C в критической зоне. Повторяемость процесса обеспечивается за счет использования специальных ламп и системы закрытого цикла управления: каждый цикл приносит одинаковый результат, что исключает изменения условий высыхания. Устройство можно использовать в чистых комнатах класса 1–100; оно не создает частиц во время работы, а система вентиляции предотвращает их повторное попадание внутрь устройства.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
