Wafers on Quartz IR Heating Experts

Durulama lambasından sonraki hızlı kuruyan wafer

Thu, 02 Jul 2026 08:36:23 +0800

Üretim alanında, yıkama işleminin kalitesi, kurutma işleminin kalitesine bağlıdır. Yıkamadan sonra kalan su izleri ve nem, verimi hızla düşürür; özellikle de 28nm’in altındaki boyutlarda bu durum daha belirgin olur. Standart ısıtıcılar mı? Bunlarda ısı transferinde gecikmeler olur ve her seferinde parçacıkların oluşmasına neden olur. Hızlı bir şekilde kurutma yapabilen lambalar sayesinde bu sorunu hızlı ve kontrollü bir şekilde çözebiliriz.

Önemli olan şeyler
Lambayı, kuvars kabuğu içinde yer alan kısa dalga boylu kızılötesi halojen ışık kaynaklarından oluşturduk. Tepki süresi çok hızlıdır ve spektrum, suyun emilim bandı üzerinde yer alır. Yarıçapın her noktasında termal tutarlılık ±0,1°C civarında olur; bu da yarıçapın yumuşak ve sert pişirme adımlarından sonra bile fotorezistin bütünlüğünü korur. Temiz oda sınıfı 1–100 elde edilebilir; çünkü ısıtma bölgesinde parçacık içermeyen malzemeler kullanılır ve cihaz, laminar akışlı bir havalandırma sistemi altında yer alır. 5.000 saatten fazla süre boyunca çıkış değerleri %5’ten az sapma gösterir ve ayarlar günler boyunca tekrarlanabilir.

Wafer taşıyıcı temizleme kurutucusu

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Üretim alanında, temizleme işleminden çıkan nemli taşıyıcılar, litografi bölümüne nem taşıyamaz. Kalan filmler ve su izleri sadece verimi düşürmekle kalmaz; aynı zamanda yeniden işlem yapılmasına da neden olur ve bir sonraki pişirme işleminde termal yükü artırır. Kurutucu, parçacık eklemeksizin ve taşıyıcıya termal stres uygulamadan istikrarlı bir kurutma sağlamalıdır.

Arka plandaki önemli faktörler
Wafer taşıyıcılarını temizlemek için kullanılan bu kurutucu, kısa dalga boylu kızılötesi ısıtma teknolojisine dayanmaktadır. Kızılötesi ışınlar doğrudan suyun ve ince filmlerin içine nüfuz eder; böylece kuvars taşıyıcının aşırı ısınması engellenir. Bu sayede yükün bulunduğu alanda milimetre altı düzeyinde bir termal alan elde edilir ve bu da kritik bölgede ±0,1°C’lik bir istikrar sağlar. Tekrarlanabilirlik ise lamba dizisi ve kapalı döngü kontrolü sayesinde sağlanır; her döngüde aynı sıcaklık profili elde edilir, böylece kurutma işlemindeki değişiklikler nedeniyle yumuşak veya sert pişirme koşulları değişmez. Sistem, 1–100 sınıfı temiz odalarda çalışır; çalışma sırasında hiçbir parçacık üretilmez ve egzoz kanalları da parçacıkların tekrar ortama karışmasını önleyecek şekilde tasarlanmıştır.

Wafer oksidasyon ısıtma elemanı

Mon, 22 Jun 2026 23:41:42 +0800

Üretim alanında, oksidasyon sırasında meydana gelen termal değişimler sadece grafiklerdeki sayılar olarak görünmez; bunlar üretim verimliliğini ciddi şekilde etkiler. Tahtadaki 2°C’lik bir ısınma, eşik voltajlarını bozar ve haftalar süren dikkatli ayarlamaların sonucunu yok eder. Biz de bu tür değişkenleri ortadan kaldırmak için yonga oksidasyonu için kullanılan ısıtıcı elemanları özel olarak tasarladık.

Teknik açıdan önemli olanlar Bu eleman kuvars tabanlıdır ve hızlı tepki verip stabil kalacak şekilde ayarlanmıştır. Tahta üzerindeki sıcaklık farkı ±0,1°C civarındadır ve döngüden döngüye tekrarlanabilirlik ise 0,2°C’nin altındadır. Termal bütçenize uygun olacak şekilde kısa dalga veya orta dalga profilleri seçebilirsiniz: İnce kapılarda hızlı ısınma, kalın oksit tabakaları oluşturulurken ise kontrollü ısınma uygulanır.