Wafer khô nhanh sau khi rửa bằng đèn

Thu, 02 Jul 2026 08:36:23 +0800

Trong quy trình sản xuất, khả năng làm khô Wafer sau khi rửa phụ thuộc rất nhiều vào chất lượng việc làm khô. Những vết nước, vết bẩn cùng độ ẩm còn sót lại sau quá trình rửa sẽ làm giảm chất lượng wafer – đặc biệt là ở kích thước dưới 28nm. Các bộ sấy thông thường sẽ gây ra hiện tượng trì hoãn trong việc làm nóng wafer; mỗi lần wafer được di chuyển lên xuống, nguy cơ tạo ra các hạt bụi cũng tăng lên.

Máy sưởi không gian làm nóng nhanh

Mon, 08 Jun 2026 05:04:11 +0800

Trong một spa bận rộn, sự thoải mái là mục đích chính. Nếu phòng lạnh, cơ bắp sẽ căng thẳng, buổi trị liệu sẽ mất đi hiệu quả, và khách hàng sẽ không cảm thấy thư giãn. Các thiết bị sưởi truyền thống mất quá nhiều thời gian để làm ấm không gian, và không khí cưỡng bức sẽ làm khô da. Đây là giải pháp: một thiết bị sưởi hồng ngoại làm ấm nhanh chóng, giúp làm ấm trực tiếp cơ thể - không chỉ là không khí.

Những gì quan trọng bên trong Chúng tôi đã xây dựng thiết bị này xung quanh một bóng đèn sưởi hồng ngoại sóng ngắn, kết hợp với một ống quartz hiệu suất cao. Nó hoạt động với công suất 1500W trên nguồn 120V tiêu chuẩn và đạt công suất tối đa trong chưa đến ba giây. Nhiệt bức xạ thâm nhập vào các lớp bề mặt, vì vậy bạn sẽ nhận được độ ấm nhẹ nhàng và sâu. Mẫu tia được điều chỉnh để phân phối đồng đều, do đó bạn không gặp phải các điểm nóng gắt. Một bộ điều chỉnh nhiệt độ tích hợp có thể điều chỉnh giữ cho nhiệt độ ổn định, và một tấm chắn chắc chắn bảo vệ cả bóng đèn và khách hàng.

Nhanh on Quartz IR Heating Experts

Wafer khô nhanh sau khi rửa bằng đèn

Máy sưởi không gian làm nóng nhanh