Wafer on Quartz IR Heating Experts

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Tue, 28 Jul 2026 05:04:46 +0800

Ngăn chặn việc vỡ của các ống đèn: Giữ cho các wafer sạch sẽ khi đèn bị hỏng
Trong dây chuyền sản xuất với công suất cao, việc đèn bị hỏng không chỉ gây ra hiện tượng gián đoạn sản xuất khó chịu, mà còn là một thảm họa thực sự. Khi ống thủy tinh bị vỡ, những mảnh thủy tinh và khí halogen sẽ rơi trực tiếp xuống các wafer. Điều này khiến toàn bộ lô sản phẩm bị hỏng ngay lập tức. Việc dọn dẹp sau đó cũng là điều mà ai cũng muốn tránh.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Fri, 24 Jul 2026 11:32:46 +0800

Tại sao bức xạ hồng ngoại lại tốt hơn không khí nóng để xử lý các tấm wafer?
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp lưu thông không khí nóng, thì bạn đang lãng phí một nửa thời gian của mình chỉ để chờ đợi. Điều quan trọng không phải là việc sử dụng thiết bị “tốt hơn”, mà chính là tốc độ xử lý. Trong quá trình xử lý phức tạp, việc sử dụng không khí để truyền nhiệt thực sự là cách kém hiệu quả. Bạn sẽ lãng phí hàng phút thời gian – những phút giây này sẽ tích tụ thành thời gian lớn khi xử lý hàng ngàn tấm wafer.

Cảm biến nhiệt độ dành cho thiết bị xử lý wafer

Thu, 23 Jul 2026 11:38:34 +0800

Ngăn chặn tình trạng bóng đèn hỏng gây hại cho các wafer
Trong các thiết bị xử lý wafer công suất cao, việc bóng đèn hỏng không chỉ gây phiền toái mà còn dẫn đến chi phí sửa chữa khổng lồ. Khi vỏ bọc bằng thủy tinh của bóng đèn vỡ, những mảnh thủy tinh và tungsten bốc hơi sẽ rơi trực tiếp xuống các wafer. Điều này khiến toàn bộ lô sản phẩm bị hỏng ngay lập tức. Sau đó, công việc dọn dẹp toàn bộ buồng xử lý lại trở thành nhiệm vụ khó khăn. Không ai muốn dành cuối tuần của mình vào việc này cả.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Wed, 22 Jul 2026 04:38:17 +0800

Làm thế nào để sấy khô các tấm wafer MEMS một cách hiệu quả?
Việc sấy khô các tấm wafer cảm biến MEMS là một công việc đòi hỏi sự tỉ mỉ cao. Nếu không kiểm soát được nhiệt độ một cách chính xác, các tấm wafer này sẽ bị hư hại do lực ma sát hoặc sức căng bề mặt. Để khắc phục điều này, chúng tôi sử dụng các bộ phận gia nhiệt bằng tia hồng ngoại để làm bay hơi các chất lỏng còn sót lại. Mục tiêu là loại bỏ hết độ ẩm mà không làm hư hại các màng mỏng trên tấm wafer.

Bộ phản xạ ánh sáng cho đèn sấy wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:23:10 +0800

Tận dụng tối đa quá trình xử lý wafer
Khi xử lý wafer, việc cân bằng các yếu tố liên quan đến nhiệt độ là điều rất quan trọng. Bạn cần loại bỏ các chất dung môi hoặc kích thích phản ứng hóa học cần thiết, nhưng bạn không thể tăng nhiệt độ quá cao, vì điều đó sẽ làm hỏng bề mặt wafer.

Đó là lúc các bộ phản xạ được sử dụng. Chúng tôi sử dụng các bộ phản xạ được phủ bằng vàng, bởi vì chúng ta không muốn năng lượng hồng ngoại bị lãng phí mà chảy vào khung máy.

Wafer khô nhanh sau khi rửa bằng đèn

Thu, 02 Jul 2026 08:36:23 +0800

Trong quy trình sản xuất, khả năng làm khô Wafer sau khi rửa phụ thuộc rất nhiều vào chất lượng việc làm khô. Những vết nước, vết bẩn cùng độ ẩm còn sót lại sau quá trình rửa sẽ làm giảm chất lượng wafer – đặc biệt là ở kích thước dưới 28nm. Các bộ sấy thông thường sẽ gây ra hiện tượng trì hoãn trong việc làm nóng wafer; mỗi lần wafer được di chuyển lên xuống, nguy cơ tạo ra các hạt bụi cũng tăng lên.

Máy làm sạch và sấy khô giá đỡ wafer

Wed, 24 Jun 2026 04:03:25 +0800

Trên dây chuyền sản xuất, các khay chứa wafer sau khi được xử lý bằng phương pháp làm khô ướt sẽ không thể mang theo hơi ẩm vào khu vực in ấn. Các lớp màng còn sót lại và vết nước không chỉ làm giảm hiệu suất sản xuất, mà còn buộc phải tiến hành gia công lại, đồng thời gây áp lực lên quá trình sấy trong lần in tiếp theo. Thiết bị sấy cần phải tạo ra môi trường khô đồng đều, mà không tạo ra các hạt bụi hay tăng nhiệt độ cho khay chứa wafer.

Thành phần gia nhiệt dùng để oxy hóa wafer

Mon, 22 Jun 2026 23:41:42 +0800

Trong quá trình oxy hóa, sự thay đổi nhiệt độ không chỉ được thể hiện qua các con số trên biểu đồ mà còn ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng sản phẩm. Chỉ cần có điểm nóng với nhiệt độ 2°C trên bề mặt wafer, điều này cũng có thể làm sai lệch điện áp hoạt động của thiết bị, khiến cho những công việc điều chỉnh kỹ lưỡng kéo dài hàng tuần trở nên vô ích. Chúng tôi đã thiết kế các bộ phận gia nhiệt dựa trên chất liệu thạch anh, nhằm loại bỏ yếu tố biến động nhiệt độ này.

Cảm biến IR chính xác cho wafer

Fri, 05 Jun 2026 04:07:08 +0800

Trên dây chuyền

Wafer 300 mm không thể để xảy ra sự trôi dạt trong quá trình nướng mềm và nướng cứng. Một điểm nóng 2°C trên toàn bộ mặt sẽ làm thay đổi CD, để lại cặn bã và biến cả một lô thành phế liệu. Bạn cần kiểm soát nhiệt độ hoạt động như một tham số quy trình thực sự, không chỉ là một phỏng đoán tốt nhất.

Điều gì quan trọng bên trong

Chúng tôi đã xây dựng cảm biến IR chính xác cho công việc wafer để giữ sự đồng nhất nhiệt độ ±0.1°C trên bề mặt nướng. Độ lặp lại điểm thiết lập duy trì trong khoảng ±0.05°C giữa các lần chạy. Nó hoạt động trong phòng sạch Class 1–100, với các vật liệu và hoàn thiện không tạo ra hạt. Không có khí thoát ra, không có rơi vãi, và không có gì làm ô nhiễm photoresist. Nó tương thích với các nguồn halogen, quartz và NIR, và phản ứng phổ vẫn ổn định để hấp thụ đồng nhất trên wafer. Bạn nhận được đầu ra ổn định sau hơn 5,000 giờ, với độ trôi dưới 5%.