ফ্যাব ফ্লোরে, রিন্সিংয়ের মান নির্ভর করে ড্রাইংয়ের মানের উপর। ওয়াশিং-এর পর থাকা জলের দাগ, দাগগুলো এবং অতিরিক্ত আর্দ্রতা উৎপাদন ক্ষমতাকে দ্রুত হ্রাস করে দেয়—বিশেষ করে ২৮ন্যানোমিটারের কম আকারের উপাদানগুলোর ক্ষেত্রে। সাধারণ হটপ্লেটগুলো ব্যবহার করলে থার্মাল ল্যাগ হয়; আর চাকটি উপর-নিচ হওয়ার সময় কণাগুলো সৃষ্টি হয়।
দ্রুত রিন্সিং-এর পর ওয়াফারটিকে শুকানোর জন্য দ্রুত গতির ল্যাম্প ব্যবহার করা হয়।
কী গুরুত্বপূর্ণ?
আমরা কোয়ার্টজ এনভেলপযুক্ত শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেড (SWIR) হ্যালোজেন এমিটারগুলো ব্যবহার করে এই ল্যাম্পটি তৈরি করেছি। এর প্রতিক্রিয়া দ্রুত হয়; আর এর স্পেকট্রামটি জলের শোষণ ব্যান্ডের ঠিক উপরে থাকে। উপাদানটির তাপীয় সমানতা ±০.১°C এর মধ্যে থাকে; এতে ওয়াফারটি সফট বেক ও হার্ড বেক প্রক্রিয়ার সময় অক্ষত থাকে।
ক্লিনরুম ক্লাস ১–১০০ অর্জন করা সম্ভব, কারণ হট জোনে কোনো কণা থাকে না; আর ইউনিটটি ল্যামিনার এয়ারফ্লো হুডের নিচে থাকে। ৫,০০০+ ঘন্টা ধরে আউটপুটটি স্থিতিশীল থাকে; আর সেটপয়েন্টগুলো প্রতিদিন পুনরাবৃত্তি হয়, কোনো সামঞ্জস্য করার দরকার হয় না।
কেন এটি উৎপাদনে কার্যকর?
রিন্সিং-এর পর ল্যাম্পটি ৩০০মিমি আকারের ওয়াফারটিকে কয়েক সেকেন্ডের মধ্যেই শুকিয়ে দেয়। এতে প্রক্রিয়ার সময় কমে যায়; আর লট নিয়ন্ত্রণও আরও ভালো হয়। থার্মাল রিপিটেবিলিটির কারণে ফটোরেসিস্ট প্রক্রিয়ায় কম ত্রুটি দেখা যায়।
শক্তি ব্যবহারও কম হয়; কারণ SWIR ল্যাম্পটি সরাসরি ফিল্মটিকে উত্তপ্ত করে, চাকটিকে নয়। কম রিওয়ার্কিং হয়; উৎপাদন প্রক্রিয়া স্থিতিশীল থাকে।
কী পরিকল্পনা করা দরকার?
ল্যাম্পটি SECS/GEM সিস্টেমের সাথে সংযুক্ত থাকে; কিন্তু তাপমাত্রা স্থিতিশীল রাখার জন্য এর জন্য আলাদা পাওয়ার সাপ্লাই ও নির্দিষ্ট নিষ্কাশন ব্যবস্থা দরকার। ওয়াফারের উপর ১২ ইঞ্চি দূরত্ব রাখা উচিত, যাতে ল্যামিনার ফ্লো বজায় থাকে।
কমিশনিং প্রক্রিয়া দ্রুত হয়; কিন্তু নিশ্চিত হওয়া উচিত যে রিন্সিং থেকে ড্রাইং পর্যন্ত의 প্রক্রিয়াটি ল্যাম্পের কনভেয়ার গতির সাথে মিলে যায়।