Dans l’usine de fabrication, le support utilisé pour transporter les wafers, une fois sorti du système de nettoyage, ne doit pas entraîner d’humidité dans la salle de lithographie. Les films résiduels et les traces d’eau non seulement réduisent le rendement, mais exigent également des retravaux et mettent à rude épreuve les capacités thermiques du système lors du prochain processus de cuisson. Le séchoir doit donc assurer un niveau de séchage constant, sans ajouter de particules ni stresser thermiquement le support.
Ce qui est important Nous avons conçu ce séchoir pour le nettoyage des supports de wafers en utilisant la chaleur infrarouge à ondes courtes (NIR). La chaleur NIR pénètre directement dans l’eau et les films fins, ce qui permet de sécher le support sans surchauffer le quartz. Cela garantit un champ thermique uniforme à l’échelle du plan de chargement, avec une précision de ±0,1°C dans la zone critique. La répétabilité est assurée par l’arrangement des lampes et par un système de contrôle en boucle fermée : chaque cycle produit toujours le même profil de température, ce qui évite que les conditions de cuisson ne varient en raison des variations de séchage. Le système fonctionne dans des salles propres de classe 1–100 ; il est conçu pour ne générer aucune particule pendant son fonctionnement. De plus, le système de ventilation est conçu pour empêcher toute reprise en charge de particules.
Pourquoi c’est important en production En production, ce séchoir élimine les incertitudes liées au transfert des wafers entre les étapes de nettoyage et de lithographie. Le photo-résistant est sensible à l’histoire thermique des wafers ; même de petits points chauds peuvent entraîner des variations dans la largeur des lignes tracées. Notre champ thermique uniforme permet de maintenir le support dans une enveloppe thermique stable. Cela se traduit par des cycles de séchage plus courts, une consommation d’énergie et de gaz réduite, ainsi que moins de wafers rejetés en raison de traces d’eau. Le module est conçu pour fonctionner 24 heures sur 24, avec une charge thermique prévisible et des lampes fiables. Ainsi, le flux de production peut continuer sans interruption.
À garder à l’esprit La séchage par NIR nécessite une ligne de vue dégagée ; par conséquent, la géométrie du support et l’écartement entre les éléments importent beaucoup. Nous définissons précisément les espacements et l’orientation des éléments afin de garantir une uniformité. Tout écart par rapport à ces paramètres entraînera des variations de température. L’installation nécessite un système électrique et de ventilation adapté aux salles propres. De plus, les lampes ont une durée de vie limitée ; il est donc nécessaire de planifier leurs remplacements dans le cadre de l’entretien préventif, afin de maintenir la qualité des wafers et la précision des températures.