Di ruang proses litografi ini, chamber pengasapan berperan untuk mengontrol suhu yang diperlukan agar lapisan fotoresist dapat dihilangkan dengan efektif. Jika suhu menyimpang sebesar setengah derajat dari nilai target, maka akan timbul sisa-sisa lapisan fotoresist yang tertinggal—atau bahkan merusak lapisan yang ada di bawahnya. Satu saja wafer yang rusak, maka seluruh proses produksi bisa gagal. Pemanasan menggunakan sinar inframerah memungkinkan kita untuk mengendalikan suhu secara akurat.
Apa yang penting secara teknis? Kita menggunakan penghasil panas berbasis sinar inframerah berfrekuensi pendek agar panas dapat disalurkan langsung ke lapisan fotoresist—dengan cepat, secara langsung, dan dapat diprediksi. Kepadatan panas pada setiap wafer tetap stabil dalam kisaran ±0,1°C selama proses berlangsung. Desain penghasil panas ini tidak menggunakan kuarsa, sehingga tidak akan ada partikel yang terbentuk, yang sangat penting untuk lingkungan cleanroom kelas 1–100. Tingkat repetibilitasnya mencapai ≤0,2% dari siklus ke siklus, baik setelah proses pembakaran lembut maupun keras, maupun setelah proses etching.
Mengapa metode ini efektif dalam produksi? Dalam proses produksi, chamber pengasapan perlu bekerja sesuai kecepatan produksi tanpa menimbulkan limbah. Kontrol suhu yang ketat memungkinkan proses pengasapan berjalan lebih efisien, mengurangi waktu yang diperlukan, serta menghemat energi. Hasilnya adalah sedikitnya sisa-sisa lapisan fotoresist, densitas cacat yang rendah, serta kontrol ketebalan lapisan yang tetap stabil setelah proses etching. Sistem ini dapat digunakan langsung pada mesin-mesin yang sudah ada, tanpa perlu modifikasi pada sistem pendinginan, sehingga waktu proses produksi dapat dikurangi tanpa memerlukan investasi besar.
Hal-hal yang perlu diperhatikan: Sinar inframerah hanya dapat bekerja jika ada jalur pandang yang jelas. Perbedaan tingkat emisi cahaya di bagian belakang wafer dan lapisan logam dapat mengganggu proses penyerapan panas. Kami menyesuaikan ukuran array penghasil panas dan spektrum cahayanya agar responsnya lebih merata. Namun, tata letak chamber tetap harus memastikan adanya jalur pandang yang jelas ke wafer. Diperlukan waktu singkat untuk menyetel profil suhu yang tepat—setelah itu, proses produksi akan berjalan dengan lancar.