Suszarka do czyszczenia nośników waferów
Na linii produkcyjnej nośnik po obróbce wilgotnościowej nie może przenosić wilgoci do stanowiska litograficznego. Pozostałości filmów i ślady wody...
Suszarka FOUP (Front Opening Unified Pod)
Na stanowisku litograficznym zasady są jasne: po czyszczeniu FOUP-y wracają do środowiska wilgotnego, a czas już biegnie. Jeśli proces wysuszania nie...