Сушилка для очистки поддонов для вафер
На производственной площадке носитель, прошедший процедуру очистки с использованием влажного метода, не может пронести влагу в зону литографии....
Сушильный аппарат FOUP (Front Opening Unified Pod)
На этапе литографии все происходит по определенному алгоритму: FOUP-корпуса прибывают с чистыми пластинами после их очистки, и время работает против...