ในห้องผลิต ขั้นตอนการล้างวัสดุนั้นมีคุณภาพเท่ากับขั้นตอนการทำให้แห้งเท่านั้น รอยน้ำ รอยเปื้อน และความชื้นที่เหลืออยู่หลังจากการล้างจะส่งผลเสียต่อคุณภาพของวัสดุได้อย่างรวดเร็ว โดยเฉพาะเมื่อมีขนาดต่ำกว่า 28 นาโนเมตร การใช้เตาอบมาตรฐานนั้นจะทำให้เกิดความล่าช้าในการให้ความร้อน และทุกครั้งที่มีการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ ก็จะเพิ่มโอกาสในการเกิดฝุ่นละออง
การใช้เครื่องอบแห้งแบบใช้แสงอัลตราไวโอเลตจะช่วยให้สามารถทำขั้นตอนการล้างและการอบให้แห้งได้อย่างรวดเร็วและมีประสิทธิภาพ
สิ่งที่สำคัญภายในอุปกรณ์ เราออกแบบเครื่องนี้โดยใช้หลอดไฟฮาโลเจนที่ปล่อยแสงอินฟราเรดความยาวคลื่นสั้น ซึ่งอยู่ภายในฝาครอบควอตซ์ ทำให้สามารถให้ความร้อนได้อย่างรวดเร็ว และสเปกตรัมของแสงนั้นตรงกับช่วงที่น้ำดูดซับแสงพอดี ทำให้อุณหภูมิของวัสดุอยู่ในช่วง ±0.1°C ซึ่งช่วยรักษาคุณภาพของวัสดุไว้ได้ ขณะที่วัสดุถูกนำไปผ่านขั้นตอนการอบต่อไป
สามารถสร้างห้องผลิตที่มีมาตรฐาน Class 1–100 ได้ เพราะบริเวณที่ให้ความร้อนนั้นไม่มีฝุ่นละอองเลย และอุปกรณ์นี้อยู่ภายใต้ระบบไหลเวียนอากาศแบบลามิเนาร์ ค่าอุณหภูมิจะคงที่ตลอดเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีความเบี่ยงเบนน้อยกว่า 5% และสามารถตั้งค่าได้ซ้ำๆ โดยไม่จำเป็นต้องปรับแต่งอีก
เหตุผลที่เหมาะสำหรับการใช้ในการผลิต หลังจากการล้างเสร็จ อุปกรณ์นี้สามารถทำให้วัสดุขนาด 300 มิลลิเมตรแห้งได้ภายในไม่กี่วินาที ไม่ใช่หลายนาที ซึ่งช่วยลดเวลาในการผลิตและทำให้สามารถควบคุมคุณภาพของวัสดุได้ดีขึ้น ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิยังช่วยลดความแปรปรวนในกระบวนการผลิต ทำให้มีข้อบกพร่องน้อยลง
นอกจากนี้ การใช้พลังงานก็ลดลงด้วย เพราะแสงอินฟราเรดความยาวคลื่นสั้นจะให้ความร้อนกับวัสดุโดยตรง ไม่ใช่การให้ความร้อนกับตัวเตาอบทั้งหมด ทำให้มีการปรับแก้ผลิตภัณฑ์น้อยลง และสามารถรักษาคุณภาพของวัสดุได้ตลอดเวลา
สิ่งที่ควรพิจารณาเมื่อวางแผน อุปกรณ์นี้สามารถเชื่อมต่อกับระบบ SECS/GEM เพื่อการสื่อสารกับเครื่องจักรได้ แต่จำเป็นต้องมีแหล่งจ่ายไฟที่เหมาะสม และระบบระบายอากาศที่มีประสิทธิภาพ เพื่อรักษาอุณหภูมิให้คงที่ ควรเว้นระยะห่างประมาณ 12 นิ้วเหนือวัสดุ เพื่อรักษาการไหลเวียนอากาศแบบลามิเนาร์
การตั้งค่าอุปกรณ์นั้นใช้เวลาไม่นาน แต่ต้องแน่ใจว่าขั้นตอนการล้างและการอบให้แห้งนั้นสอดคล้องกับความเร็วของอุปกรณ์ด้วย