Üretim alanında, RTP ısıtıcısındaki arızalar belirgin şekilde ortaya çıkmaz. Bunlar, yumuşak fırınlamada meydana gelen sapmalar, maruz kalma sonrasında hat genişliğindeki değişiklikler veya sabit kalamayan aşındırma hızları olarak kendini gösterir. Waferler, sıcaklık dengesizliklerinin izlerini taşır ve bunun sonucunda elde edilen ürünler atık haline gelir; sadece üretim durmaz.
Teknik açıdan önemli olan şey, tekrarlanabilir termal davranıştır. Isıtıcılar bu prensibe göre tasarlanır: Wafer düzeyinde ±0,1°C’lik bir denge sağlanır ve döngü süresi kontrol altında tutulur. Halojen kaynakları, hızlı ve temiz bir ısıtma için kısa dalga enerjisi sağlar; kuvars yapı ise termal kütleyi düşük tutar ve ortam kimyasal olarak inert kalır. Böylece her seferinde istenen profil elde edilir; ister fotoresistin sakinleştirilmesi için yumuşak fırınlama olsun, ister aşındırmadan önce görüntünün sabitlenmesi için sert fırınlama olsun.
Litografi işlemleri için termal koşullar çok önemlidir. Eğer ısıtıcı, wafer üzerindeki sıcaklığı sabit tutamazsa, kritik boyutlar değişir ve fotoresist hatları temizleme ve aşındırma işlemleri sırasında bozulabilir. Bu cihaz, herhangi bir parça bırakmadan Class 1–100 temiz odalarda çalışır; böylece kusur sayısı az kalır. Hızlı ısıtma sayesinde enerji tüketimi kontrol altında tutulur ve 7/24 çalışma imkanı sayesinde plansız duruşlar engellenir; böylece üretim süreci kesintisiz devam eder.
Kurulumu oldukça basittir; ancak arayüzün, kullanılan oda ve kontrol cihazlarıyla uyumlu olması gerekmektedir. Gerilim, konektör tipi ve montaj toleransları gibi detaylar önemlidir. İşlem koşullarınıza uygun şekilde sistem ayarlamaları yapılmalı ve ardından kalibre edilmiş termokupllarla profil kontrol edilmelidir.