На поверхні літографічного пристрою камера для видалення залишків фоторезисту визначає температурний режим необхідний для його усунення. Навіть незначне відхилення від заданої температури може призвести до залишку фоторезисту на поверхні пластини – а ще гірше – до пошкодження шару, який знаходиться під ним. Одна неякісна пластина може зіпсувати всю партію продукції. Інфрачервоне нагрівання дозволяє контролювати температурний профіль належним чином.
Що має значення з технічної точки зору
Ми використовуємо випромінювачі короткохвильового інфрачервоного світла для швидкого та ефективного нагрівання фоторезисту. Рівномірність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C. Конструкція випромінювачів не містить кварцу, тож не виникає частинок, що є ключовою умовою для роботи у чистих приміщеннях класу 1–100. Повторюваність результатів становить ≤0,2% від циклу до циклу, незалежно від того, чи йдеться про процедуру м’якого чи жорсткого нагрівання чи етchingу.
Чому цей метод підходить для виробництва
Під час виробництва процес видалення залишків фоторезисту мусить відбуватися без затримок та без утворення відходів. Строгий контроль температури дозволяє скоротити час обробки та енергоспоживання. Це призводить до меншої кількості залишків фоторезисту, меншої кількості дефектів та стабільного контролю товщини шару після етchingу. Система може бути встановлена на існуючі пристрої без необхідності зміни теплового интерфейсу, що дозволяє скоротити час виконання процесу без необхідності значних інвестицій.
На що потрібно звернути увагу
Інфрачервоне нагрівання вимагає прямого видимого зв’язку між випромінювачем та поверхнею пластини. Різниця в емісії на різних частинах поверхні пластини може вплинути на ефективність нагрівання. Ми підбираємо розмір випромінювачів та налаштовуємо спектр випромінювання для досягнення оптимальних результатів. Однак конструкція камери все одно мусить забезпечувати чистий, без перешкод видимий кут до поверхні пластини. Потрібен короткий час на налаштування для досягнення оптимальних параметрів – після цього процес буде контролюватися належним чином.