
Tận dụng tối đa quá trình xử lý wafer
Khi xử lý wafer, việc cân bằng các yếu tố liên quan đến nhiệt độ là điều rất quan trọng. Bạn cần loại bỏ các chất dung môi hoặc kích thích phản ứng hóa học cần thiết, nhưng bạn không thể tăng nhiệt độ quá cao, vì điều đó sẽ làm hỏng bề mặt wafer.
Đó là lúc các bộ phản xạ được sử dụng. Chúng tôi sử dụng các bộ phản xạ được phủ bằng vàng, bởi vì chúng ta không muốn năng lượng hồng ngoại bị lãng phí mà chảy vào khung máy.
Tại sao lại chọn vàng?
Hầu hết mọi người đều chọn aluminium để làm bộ phản xạ, nhưng vật liệu này không phù hợp để xử lý sóng hồng ngoại dài. Nó để cho quá nhiều nhiệt lượng lọt qua. Vàng thì khác. Nhờ lớp vàng được phủ bằng phương pháp chân không, chúng ta có thể đẩy hầu hết năng lượng hồng ngoại trở lại nơi cần thiết.
Hình dạng của bộ phản xạ cũng rất quan trọng
Hình dạng của bộ phản xạ quyết định cách mà nhiệt được truyền đến wafer. Hình dạng parabol giúp tập trung chùm sáng, trong khi hình dạng elipp thì giúp chiếu nhiệt vào một điểm cụ thể. Nếu hình dạng không chính xác, bạn sẽ gặp vấn đề. Bạn sẽ thấy những vùng nóng trên wafer, điều này có nghĩa là quá trình xử lý không đồng đều, thậm chí bề mặt wafer còn bị biến dạng. Để ngăn chặn việc năng lượng bị lãng phí, chúng ta cần đảm bảo rằng bóng đèn được đặt chính xác trên trục quang học. Độ chính xác rất quan trọng ở đây.
Nhược điểm của vàng
Vàng rất tốt để xử lý nhiệt, nhưng nó lại mềm. Nó không thể chịu được sự ma sát mạnh. Nếu nhóm của bạn sử dụng các chất tẩy rửa mạnh hoặc miếng lông nhám để làm sạch khu vực sản xuất, lớp vàng sẽ bị trầy xước. Khi đó, hiệu suất sẽ giảm mạnh. Bạn cần phải xử lý các bộ phận này một cách cẩn thận. Việc sử dụng lớp bảo vệ bằng thủy tinh thường là giải pháp tốt nhất.
Một mẹo nhỏ khi thiết lập hệ thống
Khi lắp đặt các hệ thống này, hãy nhớ rằng hiệu suất càng cao thì wafer sẽ hấp thụ nhiều năng lượng hơn. Bạn có thể cần giảm công suất hoặc tăng tốc độ di chuyển của wafer để tránh việc xử lý quá mức. Đừng quên việc sử dụng lớp bảo vệ. Bạn không muốn các thiết bị khác hấp thụ hết năng lượng được truyền đến wafer.