In der Fertigungshalle ist die Qualität des Abspülvorgangs nur so gut wie die Qualität des Trocknungsprozesses. Wasserflecken, Streifen sowie übrig gebliebene Feuchtigkeit nach dem Waschen verringern die Effizienz – besonders bei Strukturen unter 28 nm. Standardheizelemente führen zu Verzögerungen beim Erwärmen; außerdem entstehen durch die Bewegung des Chucks ständig neue Partikel.
Ein schneller Lampentrockner nach dem Abspülvorgang ermöglicht es uns, diesen Prozess schnell und kontrolliert abzuwickeln.
Was wichtig ist
Wir haben die Lampe mit Halogenemittenten im Kurzwellen-Infrarotbereich in einer Quarzkapsel konstruiert. Die Reaktionszeit ist kurz, und das Spektrum liegt genau im Absorptionsbereich von Wasser. Die thermische Homogenität auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1 °C – dadurch bleibt die Integrität des Photoresists erhalten, wenn die Wafer anschließend den Weich- und Hartbackvorgängen unterzogen werden.
Eine Reinraumklasse von 1–100 ist möglich, da die Heizzone aus partikelfreien Materialien besteht und die Lampe unter einem laminaren Luftstrom steht. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil – mit weniger als 5 % Abweichung. Die Einstellungen müssen nicht täglich neu justiert werden.
Warum das in der Produktion wichtig ist
Sofort nach dem Abspülen trocknet die Lampe eine 300-mm-Wafer in Sekunden – nicht in Minuten. Dadurch verkürzt sich die Bearbeitungszeit und die Kontrolle über die Produktqualität wird verbessert. Die thermische Reproduzierbarkeit reduziert die Schwankungen im Photoresist-Prozess – dadurch entstehen weniger Defekte aufgrund von Temperaturschwankungen.
Außerdem sinkt der Energieverbrauch, da das SWIR-System den Film direkt erhitzt, anstatt den gesamten Chuck zu erwärmen. Es gibt weniger Nacharbeiten, die Maschine läuft länger stabil, und der Prozess verläuft innerhalb der spezifizierten Parameter.
Was man berücksichtigen muss
Die Lampe kann mit SECS/GEM zur Kommunikation mit dem Hostsystem verwendet werden. Allerdings benötigt sie eine eigene Stromversorgung sowie eine effektive Entlüftung, um die Temperatur stabil zu halten. Lassen Sie einen Abstand von 12 Zoll über dem Waferpfad – damit bleibt der laminare Luftstrom gewährleistet.
Die Einrichtung der Lampe dauert nicht lange – aber stellen Sie sicher, dass die Übertragung vom Abspülvorgang zum Trocknungsprozess mit der Geschwindigkeit des Transportbands übereinstimmt.