Sur le plan de production, la qualité du rinçage dépend entièrement de celle du séchage. Les marques d’eau, les traces et l’humidité résiduelle après le lavage réduisent rapidement la qualité du produit fini – surtout pour des épaisseurs inférieures à 28 nm. Les plaques chauffantes traditionnelles entraînent des retards thermiques ; de plus, chaque fois que la plaque se met en mouvement, cela favorise la formation de particules indésirables.
Un sèche-lampes à haute vitesse permet de résoudre ce problème rapidement et avec précision.
Ce qui est important dans ce système Nous avons conçu cette lampe en utilisant des émetteurs halogènes à ondes infrarouges courtes, placés dans un enveloppement en quartz. La réponse est rapide, et le spectre émis correspond exactement à la bande d’absorption de l’eau. L’uniformité thermique au niveau de la wafer reste dans une fourchette de ±0,1°C, ce qui protège l’intégrité du photo-résist lors des étapes de séchage suivantes.
Un environnement de classe 1–100 est possible, car la zone de chauffage utilise des matériaux exempt de particules, et l’appareil est placé sous un système de flux d’air laminar. La performance de l’appareil reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5 % de dérive. Les paramètres de fonctionnement restent constants d’un jour à l’autre, sans besoin de réglages supplémentaires.
Pourquoi c’est utile en production Immédiatement après le rinçage, la lampe sèche une wafer de 300 mm en quelques secondes seulement, et non en minutes. Cela réduit le temps de cycle et améliore le contrôle de qualité. La répétabilité thermique diminue les variations liées aux fluctuations de température, ce qui réduit le nombre de défauts.
La consommation d’énergie diminue également, car les ondes infrarouges chauffent directement la couche de photo-résist, sans chauffer toute la plaque. Moins de travaux de correction, plus de disponibilité du matériel, et un processus qui reste dans les normes.
Ce dont vous devez tenir compte La lampe est compatible avec SECS/GEM pour la communication avec le système de contrôle, mais elle nécessite une alimentation électrique dédiée ainsi qu’un système d’évacuation efficace pour maintenir une température stable. Il faut laisser un espace de 12 pouces au-dessus de la wafer pour assurer un flux d’air laminar.
La mise en service est rapide, mais assurez-vous que la vitesse de transfert de la wafer correspond à celle de la lampe.