در اتاق فرآیند لیتوگرافی، محفظه حرارتی مسئول تعیین دمای مناسب برای حذف فوتورزیست است. اگر دما حتی نیم درجه از مقدار مورد نظر فاصله بگیرد، باقیماندههای فوتورزیست باقی خواهد ماند؛ یا در بدترین حالت، به لایههای زیرین آسیب خواهد رسید. یک ویفر خراب میتواند باعث اختلال در کل فرآیند شود. استفاده از گرمایش مادون قرمز، به شما کمک میکند تا دمای مورد نظر را حفظ کنید.
آنچه از نظر فنی اهمیت دارد: ما از فرستندههای مادون قرمز کوتاهامواج برای انتقال گرما به داخل لایههای فوتورزیست استفاده میکنیم؛ این روش سریع، مستقیم و قابل پیشبینی است. یکنواختی دما در سراسر ویفر، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند. طراحی فرستندهها به گونهای است که هیچ ذرهای تولید نشود؛ این موضوع دقیقاً همان چیزی است که برای اتاقهای تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ ضروری است. تکرارپذیری فرآیند نیز در حد ≤۰.۲٪ است، چه این فرآیند بعد از حرارتدهی ملایم، حرارتدهی شدید یا فرآیند اتاچ انجام شود.
چرا این روش در تولید موثر است: در تولید، فرآیند حذف فوتورزیست باید هماهنگ با سرعت خط تولید باشد، بدون اینکه باعث ایجاد ضایعات شود. کنترل دقیق دما، زمان لازم برای حذف فوتورزیست را کاهش میدهد و مصرف انرژی را نیز کمتر میکند. نتیجه آن، کاهش باقیماندههای فوتورزیست، کاهش تعداد نقصها، و کنترل دقیق عرض خط تولید پس از فرآیند اتاچ است. این سیستم میتواند بدون نیاز به تغییرات در ساختار حرارتی، در خطوط تولید موجود استفاده شود؛ بنابراین میتوانید زمان فرآیند را کاهش دهید، بدون نیاز به سرمایهگذاریهای بزرگ.
نکاتی که باید در نظر گرفت: فرآیند حذف فوتورزیست با استفاده از مادون قرمز، نیازمند دید مستقیم است؛ بنابراین تفاوتهای انتشار گرما در سطوح پشتی ویفر و لایههای فلزی میتواند باعث اختلال در جذب گرما شود. ما اندازه فرستندهها را تنظیم کرده و طیف انتشار گرما را به گونهای تنظیم میکنیم که واکنشها یکنواخت باشد؛ اما طراحی محفظه نیز باید به گونهای باشد که ویفر بتواند دید واضحی داشته باشد. انتظار داشته باشید که فرآیند راهاندازی کوتاهی لازم باشد تا پروفایل دمایی مورد نظر تعیین شود؛ پس از آن، فرآیند تحت کنترل خواهد بود.