در خط تولید، کیفیت خشک کردن ویفر، به همان اندازه مهم است که کیفیت شستشو نیز مهم است. ردپاهای آب، خطوط ناشی از شستشو، و رطوبت باقیمانده پس از شستشو، باعث کاهش کیفیت ویفر میشوند؛ بهویژه در فرکانسهای زیر ۲۸ نانومتر. استفاده از اجاقهای معمولی نیز منجر به تأخیر در گرم شدن ویفر میشود؛ همچنین، هر بار که سرعت گرم شدن ویفر تغییر کند، احتمال ایجاد ذرات ناخواسته نیز وجود دارد.
استفاده از دستگاه خشککن سریع، راهی برای حل این مشکلات است.
موارد مهم در کارکرد دستگاه
ما از فیلامنتهای هالوژنی با طول موج کوتاه در قالب یک غلاف کوارتزی برای ساخت این لامپ استفاده کردهایم. پاسخگویی این لامپ بسیار سریع است و طیف تابش آن دقیقاً مطابق با نواحی جذب آب است. یکنواختی دمایی ویفر در سراسر سطح آن، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند؛ این امر از سلامت فوتورزیست در مراحل گرمایش ویفر جلوگیری میکند.
به دلیل استفاده از مواد بدون ذره در منطقه گرمایشی، و قرار گرفتن دستگاه در محیطی با جریان هوای یکنواخت، امکان دستیابی به سطح پاکیزگی ۱ تا ۱۰۰ وجود دارد. خروجی دستگاه در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار، کمتر از ۵٪ تغییر میکند؛ همچنین، تنظیمات دستگاه روز به روز بدون نیاز به تنظیم مجدد، باقی میمانند.
چرا این دستگاه در تولید مفید است؟
بلافاصله پس از شستشو، این لامپ ویفر ۳۰۰ میلیمتری را در عرض چند ثانیه خشک میکند؛ این امر باعث کاهش زمان تولید و بهبود کنترل کیفیت ویفر میشود. یکنواختی دمایی نیز باعث کاهش نوسانات فرآیند فوتورزیست میشود؛ در نتیجه، نقصهای ناشی از تغییرات دمایی کاهش مییابد.
همچنین، مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا لامپ فیلم را مستقیماً گرم میکند، نه کل سطح ویفر. این امر باعث کاهش نیاز به بازسازی ویفر، افزایش زمان کار دستگاه، و حفظ استانداردهای فرآیندی میشود.
چه چیزهایی باید در نظر گرفت؟
این لامپ قابل اتصال به سیستم SECS/GEM برای ارتباط با سیستمهای کنترلی است؛ اما برای حفظ یکنواختی دما، به منبع تغذیه مناسب و سیستم تخلیه هوای مناسب نیاز دارد. همچنین، باید فاصله ۱۲ اینچی بین لامپ و ویفر وجود داشته باشد تا جریان هوای یکنواخت حفظ شود.
فرآیند راهاندازی دستگاه کوتاه است؛ اما باید مطمئن شوید که سرعت انتقال ویفر از مرحله شستشو به مرحله خشک کردن، متناظر با سرعت لامپ باشد.