Di bilik pembersihan, kualiti proses pengeringan bergantung sepenuhnya pada kualiti proses pengeringan selepas mencuci. Kesan air, kesan garisan, serta kelembapan yang tinggal selepas pencucian akan merosakkan kualiti wafer – terutamanya pada saiz yang kurang dari 28nm. Penggunaan panas biasa akan menyebabkan kelewatan dalam proses pengeringan, dan setiap kali suhu ditingkatkan atau diturunkan, ia akan meningkatkan risiko pembentukan zarah-zarah kecil.
Penggunaan lampu pengeringan yang cepat merupakan cara untuk mempercepatkan proses pengeringan dengan lebih efektif dan terkawal.
Apa yang penting dalam reka bentuk ini
Kami menggunakan emiter inframerah gelombang pendek (SWIR) yang terletak di dalam selubung kuarsa. Reaksi yang dihasilkan sangat cepat, dan spektrum cahaya tersebut sepadan dengan jalur penyerapan air. Keseragaman suhu pada permukaan wafer dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C, sehingga integriti bahan fotoresist dapat dipelihara semasa proses pembakaran wafer.
Tingkat kebersihan bilik pembersihan yang mencapai tahap 1–100 dapat dicapai kerana zon panas menggunakan bahan yang bebas daripada zarah-zarah kecil, dan peralatan tersebut berada di bawah sistem aliran udara yang terkawal. Prestasi peralatan tetap stabil walaupun digunakan selama lebih dari 5,000 jam, dengan variasi suhu yang kurang dari 5%. Tetapan suhu juga boleh dikekalkan tanpa perlu penyesuaian setiap hari.
Mengapa ia penting dalam proses pengeluaran
Selepas proses pencucian, lampu pengeringan dapat mengeringkan wafer berukuran 300mm dalam masa beberapa saat sahaja, bukan minit-minit. Ini memendekkan masa proses pengeluaran dan memudahkan kawalan kualiti wafer. Keseragaman suhu juga membantu mengurangkan variasi dalam proses penggunaan bahan fotoresist, sehingga mengurangkan kecacatan yang disebabkan oleh perubahan suhu.
Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana SWIR memanaskan lapisan film secara langsung, bukannya seluruh permukaan wafer. Ini mengurangkan keperluan untuk proses pembetulan semula, memastikan operasi yang stabil, dan memastikan proses berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan.
Apa yang perlu dipertimbangkan
Lampu ini boleh digabungkan dengan sistem SECS/GEM untuk komunikasi antara peralatan. Namun, ia memerlukan sumber tenaga yang khusus serta sistem pengudaraan yang efektif untuk mengekalkan suhu yang stabil. Pastikan ada jarak sekurang-kurangnya 12 inci di atas laluan wafer agar aliran udara tetap terkawal.
Proses pengujian peralatan ini memerlukan masa yang singkat, namun pastikan kelajuan pemindahan wafer dari proses pencucian ke proses pengeringan sesuai dengan kelajuan lampu tersebut.